[發(fā)明專利]一種半導體等離子刻蝕機清潔裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110026149.7
• 申請日: 2021-01-08
• 公開（公告）號: CN112718743A
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發(fā)明（設計）人: 夏金瑋
• 申請（專利權）人: 東莞市靜航電子商務有限公司
• 主分類號: B08B9/087
• 分類號: B08B9/087;B08B5/04;B08B15/02;B08B13/00;B01D46/00;B01D46/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種半導體等離子刻蝕機清潔裝置，包括機體，其特征在于：所述機體內部設有刻蝕腔，所述刻蝕腔上壁面固定設有等離子發(fā)射裝置，所述刻蝕腔下壁面固定設有向上延伸的工作臺，所述工作臺上端左右兩側端面設有開口相反且左右對稱的調節(jié)腔，所述調節(jié)腔上壁面與所述工作臺上端面之間連通設有調節(jié)導滑槽，所述調節(jié)腔內部以及所述調節(jié)腔上側設有夾緊裝置，所述刻蝕腔遠離所述工作臺軸心一側的所述機體內設有升降腔，所述升降腔與所述刻蝕腔之間連通設有左右對稱的導滑槽，所述升降腔內部設有能夠上下移動的升降環(huán)，所述刻蝕腔遠離所述工作臺軸心一側上下壁面之間固定設有左右對稱的支撐桿，所述支撐桿遠離所述工作臺軸心一側端面設有開口向同側所述導滑槽一側的支撐導滑腔，所述支撐導滑腔內部設有能夠上下滑動的伸縮塊，所述伸縮塊遠離所述工作臺一側端面設有開口向外的伸縮腔，所述伸縮腔內部設有能夠左右伸縮的伸縮桿，所述伸縮桿遠離所述工作臺軸心一端固定設有能夠上下移動的刮取板，左右兩側所述刮取板外圓面與所述刻蝕腔內壁面相互抵接，所述導滑槽對應位置的所述升降環(huán)內圓面設有開口向所述工作臺軸心一側的推動腔，所述過濾網內部設有能夠左右移動的推動桿，所述推動桿能夠穿過所述導滑槽延伸至所述刻蝕腔內并與同側所述刮取板外圓面固定連接，左右兩側所述刮取板前后兩端均設有開口向外的回收腔，所述回收腔內部設有能夠滑動的回收板，所述回收板遠離所述工作臺軸心一側端面設有開口向外的補償板存放腔，所述補償板存放腔內部設有能夠滑動的刮取補償板，所述刮取補償板延伸出所述補償板存放腔時能夠與所述刻蝕腔內壁面抵接，所述刻蝕腔下側設有同步帶輪腔，所述同步帶輪腔上側設有聚合物存放腔，所述聚合物存放腔上壁面與所述刻蝕腔下壁面之間連通設有環(huán)形的聚合物輸送腔，所述工作臺下側的所述機體內設有往復腔，所述往復腔下端左壁面與所述聚合物輸送腔之間連通設有聚合物推送腔，所述聚合物推送腔上壁面與所述刻蝕腔下壁面之間連通設有氣體流動通道，所述聚合物推送腔上側的所述往復腔左壁面與所述氣體流動通道之間連通設有擠壓板運行通道。

2.如權利要求1所述的一種半導體等離子刻蝕機清潔裝置，其特征在于：所述等離子發(fā)射裝置能夠發(fā)射等離子體，所述調節(jié)腔內部設有能夠沿著靠近或遠離所述工作臺軸心一側移動的調節(jié)導滑塊，所述調節(jié)導滑塊靠近所述工作臺軸心一側端面與同側所述調節(jié)腔靠近所述工作臺軸心一側壁面之間固定設有調節(jié)彈簧，所述調節(jié)導滑塊上端面固定設有貫穿同側所述調節(jié)導滑槽并延伸出所述工作臺上端面的調節(jié)支桿，所述調節(jié)支桿上端均固定設有相互對稱的夾板，所述夾板靠近所述工作臺軸心一側固定設有彈性保護層，相鄰兩個所述彈性保護層之間放置有硅片。

3.如權利要求1所述的一種半導體等離子刻蝕機清潔裝置，其特征在于：所述同步帶輪腔左端下側的所述機體內固定設有升降電機，所述升降電機上端面動力連接有貫穿所述同步帶輪腔與所述升降腔上下壁面的主升降螺桿，所述同步帶輪腔右側上壁面轉動設有貫穿所述升降腔上下壁面的副升降螺桿，位于所述升降腔內部的所述主升降螺桿與所述副升降螺桿外圓面與同側所述升降環(huán)螺紋配合，位于所述同步帶輪腔內部的所述主升降螺桿外圓面固定設有主動帶輪，所述副升降螺桿下端固定設有從動帶輪，所述主動帶輪與所述從動帶輪之間繞有傳動帶。

4.如權利要求1所述的一種半導體等離子刻蝕機清潔裝置，其特征在于：所述推動桿遠離所述工作臺軸心一側內部固定設有銜鐵，所述推動腔遠離所述工作臺軸心一側壁面固定設有電磁鐵芯，所述推動腔遠離所述工作臺軸心一側壁面與同側所述推動桿遠離所述工作臺軸心一側端面之間固定設有電磁彈簧，所述推動桿上端面與同側所述導滑槽上壁面之間以及所述推動桿下端面與同側所述導滑槽下壁面之間均固定設有能夠伸縮的防塵網，所述防塵網能夠防止所述刻蝕腔內部的聚合物進入所述升降腔內，所述伸縮塊下端面與同側所述支撐導滑腔下壁面之間固定設有復位彈簧。