[發明專利]一種對雙玻光伏組件圖案刻蝕的方法

在審

• 申請號: 202110019865.2
• 申請日: 2021-01-07
• 公開（公告）號: CN112768560A
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發明（設計）人: 彭壽;潘錦功;傅干華;蔣猛;劉鑫
• 申請（專利權）人: 成都中建材光電材料有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L31/048
• 代理公司: 成都市集智匯華知識產權代理事務所(普通合伙) 51237
• 代理人: 李華;溫黎娟

本發明實施例公開一種對雙玻光伏組件圖案刻蝕的方法，包括：對雙玻光伏組件的玻璃基板上鍍膜并形成鍍膜面；在所述鍍膜面上設置帶有預設鏤空圖形的掩膜層；以所述掩膜層作為遮擋體，對所述鍍膜面進行刻蝕處理；取下所述掩膜層，對所述玻璃基板清潔處理；本發明實施例的有益效果是：容易實現批量化生產、制造設備簡單、加工速度較快。

技術領域

本發明涉及一種圖案刻蝕的方法，尤其涉及一種對雙玻光伏組件圖案刻蝕的方法。

背景技術

雙玻型組件已經成為了主流光伏產品。BIPV的興起對組件提出了更多的建材屬性的要求，尤其是外觀。為了應對這一要求，雙玻型的光伏組件采用彩色膠膜、圖案膠膜等方法制作出了多種色彩繽紛的產品。對于薄膜型的組件，使用激光或者超薄吸收層等技術，制備出了可以透光的產品。

對于頂襯結構的雙玻光伏產品，由于襯底就是朝陽的那一面，很難實現對色彩外觀的優化，也很難實現外觀的圖案化，因此產品外觀一直較為單一。如果采用玻璃面鍍膜技術，由于沒有保護，鍍膜也很容易在生產過程中損壞。還有一種方案采用激光燒蝕的方法，去除掉一部分吸收層，來實現圖案的定制化。但是這種方法由于激光設備昂貴，且加工速度非常緩慢，在規模化生產中有一定的限制。

發明內容

為解決以上技術問題，本發明實施例提供一種對雙玻光伏組件圖案刻蝕的方法，容易實現批量化生產，制造設備簡單，加工速度較快。

為達上述目的，本發明實施例的技術方案是這樣實現的：

本發明實施例提供一種對雙玻光伏組件圖案刻蝕的方法，包括：

對雙玻光伏組件的玻璃基板上鍍膜并形成鍍膜面；

在所述鍍膜面上設置帶有預設鏤空圖形的掩膜層；

以所述掩膜層作為遮擋體，對所述鍍膜面分別進行化學刻蝕處理和噴砂刻蝕處理；

取下所述掩膜層，對所述玻璃基板清潔處理。

在本發明實施例中，所述化學刻蝕處理包括：

向處于所述掩膜層上鏤空圖形內的所述鍍膜面通過硝酸溶液對所述鍍膜面的Mo膜層、CdTe發電層和CdS發電層進行腐蝕處理。

在本發明實施例中，對所述膜面進行化學刻蝕處理時，所述硝酸溶液的濃度50％～70％，所述化學刻蝕處理的環境溫度為20～25℃。

在本發明實施例中，所述噴砂刻蝕處理包括：

向處于所述掩膜層上鏤空圖形內的所述鍍膜面通過噴砂處理去除所述鍍膜面上的TCO膜層，其中，所述噴砂處理中球形沙粒的硬度小于4，并通過0.1Mpa的壓縮空氣帶動噴射到所述掩膜層上。

在本發明實施例中，對所述鍍膜面進行噴砂處理時的環境溫為18～25℃，濕度為40～60％RH。

在本發明實施例中，所述對所述鍍膜面分別進行化學刻蝕處理和噴砂刻蝕處理后的所述玻璃基板檢測絕緣電阻，具體包括：

使用電壓為1000V、檢測距離為1～2mm的兩個探針檢測絕緣電阻，其中，當檢測所述絕緣電阻≥1Gohm時，取下所述掩膜層，對所述玻璃基板清潔處理。

在本發明實施例中，在進行化學刻蝕處理時，所述掩膜層的材料為光刻膠、Cr/Au、Ti/Au、碳化硅中的任意一種。