[發(fā)明專利]圖像處理方法、裝置及計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110019522.6
• 申請日: 2021-01-07
• 公開（公告）號: CN112699830A
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳冠男;吳艷紅
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00;G06N3/04;G06N3/08
• 代理公司: 北京安信方達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262
• 代理人: 解婷婷;曲鵬

1.一種圖像處理方法，其特征在于，包括：

獲取圖像，利用基于深度學(xué)習(xí)的人臉檢測網(wǎng)絡(luò)對所述圖像進(jìn)行人臉檢測，確定所述圖像的類型，其中所述類型包括人臉特寫圖像和非人臉特寫圖像；

根據(jù)所述圖像的類型確定所述圖像的類型對應(yīng)的場景標(biāo)簽；

根據(jù)所述場景標(biāo)簽對所述圖像進(jìn)行處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述圖像的類型確定所述圖像的類型對應(yīng)的場景標(biāo)簽包括：

當(dāng)所述圖像的類型為非人臉特寫圖像時(shí)，對于非人臉特寫圖像采用基于深度學(xué)習(xí)的場景分類網(wǎng)絡(luò)對所述圖像進(jìn)行場景分類進(jìn)而確定所述非人臉特寫圖像的場景標(biāo)簽；

當(dāng)所述圖像的類型為人臉特寫圖像時(shí)，確定所述人臉特寫圖像的場景標(biāo)簽為人臉特寫標(biāo)簽。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述場景標(biāo)簽對所述圖像進(jìn)行處理包括：

根據(jù)場景標(biāo)簽、場景標(biāo)簽與圖像參數(shù)對應(yīng)關(guān)系表確定所述場景標(biāo)簽對應(yīng)的圖像參數(shù)；

根據(jù)所述圖像參數(shù)對所述圖像的參數(shù)進(jìn)行調(diào)整。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取圖像，利用基于深度學(xué)習(xí)的人臉檢測網(wǎng)絡(luò)對所述圖像進(jìn)行人臉檢測，確定所述圖像的類型包括：

獲取圖像，對所述圖像進(jìn)行人臉檢測獲取人臉位置；

根據(jù)所述人臉位置確定人臉面積；

根據(jù)所述人臉面積與所述圖像的面積的關(guān)系確定所述圖像的類型。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述人臉面積與所述圖像的面積的關(guān)系確定所述圖像的類型包括：

當(dāng)所述人臉面積與所述圖像的面積的占比超過閾值占比，確定所述圖像的類型為人臉特寫圖像；

當(dāng)所述人臉面積與所述圖像的面積的占比未超過閾值占比，確定所述圖像的類型為非人臉特寫圖像。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，在對所述圖像進(jìn)行人臉檢測獲取人臉位置后，所述方法還包括：

對檢測得到的人臉進(jìn)行磨皮處理。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于深度學(xué)習(xí)的人臉檢測網(wǎng)絡(luò)，包括：輸入部、特征提取部，預(yù)測部和輸出部，其中：

所述輸入部，用于將原始圖像處理為適用于人臉檢測網(wǎng)絡(luò)的圖像；

所述特征提取部，用于提取待處理圖像中的特征，將獲得的特征圖輸入預(yù)測部；

所述預(yù)測部，用于對不同尺寸的特征圖進(jìn)行檢測和過濾，輸出預(yù)測框位置；

所述輸出部，用于對所述預(yù)測部輸出的預(yù)測框進(jìn)行過濾，輸出人臉位置。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述特征提取部包括多個(gè)塊，其中：

第一塊包括第一卷積層、第一激活函數(shù)層、第二卷積層、第二激活函數(shù)層和第一池化層；其中：第一卷積層的卷積核為3×3，第二卷積層的卷積核為1×1；

第二塊包括第三卷積層、第三激活函數(shù)層、第四卷積層、第四激活函數(shù)層和第二池化層；其中：第三卷積層的卷積核為3×3，第四卷積層的卷積核為1×1；

第三塊包括第五卷積層、第五激活函數(shù)層、第六卷積層、第六激活函數(shù)層、第七卷積層、第七激活函數(shù)層和第三池化層；其中：第五卷積層和第七卷積層的卷積核為3×3，第六卷積層的卷積核為1×1；

第四塊包括第八卷積層、第八激活函數(shù)層、第九卷積層、第九激活函數(shù)層、第十卷積層、第十激活函數(shù)層和第四池化層；其中：第八卷積層和第十卷積層的卷積核為3×3，第九卷積層的卷積核為1×1；

第五塊包括第十一卷積層、第十一激活函數(shù)層、第十二卷積層、第十二激活函數(shù)層、第十三卷積層、第十三激活函數(shù)層和第五池化層；其中：第十一卷積層和第十三卷積層的卷積核為3×3，第十二卷積層的卷積核為1×1；

第六塊包括第十四卷積層、第十四激活函數(shù)層、第十五卷積層、第十五激活函數(shù)層、第十六卷積層和第十六激活函數(shù)層；其中：第十四卷積層和第十六卷積層的卷積核為3×3，第十五卷積層的卷積核為1×1。