[發明專利]光掩模

在審

• 申請號: 202110016918.5
• 申請日: 2021-01-07
• 公開（公告）號: CN113156758A
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: 田中千惠;山田步實;齊藤隆史
• 申請（專利權）人: 株式會社SK電子
• 主分類號: G03F1/26
• 分類號: G03F1/26;G03F1/76;G03F7/20
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;劉芃茜

1.一種光掩模，其特征在于，具備透過部、第1相移部和第2相移部，

所述第1相移部及所述第2相移部包圍所述透過部，

所述第2相移部介于所述第1相移部與所述透過部之間，

所述第2相移部及所述第1相移部將曝光光的相位反轉，

所述第2相移部的透射率比所述第1相移部的透射率低。

2.根據權利要求1所述的光掩模，其特征在于，所述第1相移部的透射率為8～15％，所述第2相移部的透射率為3～7％。

3.根據權利要求1或2所述的光掩模，其特征在于，所述第1相移部及所述第2相移部的相移量為160[°]以上且210[°]以下的范圍。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的光掩模，其特征在于，所述第1相移部的相移量為160[°]以上且190[°]以下的范圍，

所述第2相移部的相移量為180[°]以上且210[°]以下的范圍。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的光掩模，其特征在于，所述第2相移部是構成所述第1相移部的相移膜與半透過膜的層疊。