[發(fā)明專利]一種微波透明熱控薄膜及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110015542.6 | 申請(qǐng)日: | 2021-01-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112853294B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-04-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張翔;李垚;孫文海;李文杰;趙九蓬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C14/35 | 分類號(hào): | C23C14/35;C23C14/26;C23C14/30;C23C14/20;C23C14/06;C23C14/10;C23C14/08 |
| 代理公司: | 哈爾濱華夏松花江知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 23213 | 代理人: | 侯靜 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國(guó)省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 微波 透明 薄膜 及其 制備 方法 | ||
一種微波透明熱控薄膜及其制備方法,它涉及一種熱控薄膜及其制備方法。本發(fā)明的目的是要解決現(xiàn)有微波透明熱控薄膜整體太陽(yáng)吸收率能達(dá)到0.45左右,整體紅外發(fā)射率僅在0.7左右和微波透過(guò)率低的問(wèn)題。一種微波透明熱控薄膜為介質(zhì)膜沉積在基底材料表面;所述的介質(zhì)膜的層數(shù)≥2層,材質(zhì)為Ge膜、Si膜、MgF膜、SiOsubgt;2/subgt;膜、Tasubgt;2/subgt;Osubgt;5/subgt;膜、TiOsubgt;2/subgt;膜、Tisubgt;3/subgt;Osubgt;5/subgt;膜、ZnO膜和ZnS膜中的兩種膜或兩種以上膜。方法:一、基底材料的表面處理;二、離子束轟擊;三、沉積介質(zhì)膜。本發(fā)明制備的微波透明熱控薄膜整體太陽(yáng)吸收率低于0.3,紅外發(fā)射率大于0.7,微波透過(guò)率達(dá)到90%以上。本發(fā)明主要應(yīng)用于航天器熱控薄膜。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種熱控薄膜及其制備方法。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)微波透明熱控薄膜通常采用聚酰亞胺鍍鍺膜。該薄膜通過(guò)鍺的反射實(shí)現(xiàn)較低的太陽(yáng)吸收率,通過(guò)聚酰亞胺本身的發(fā)射率實(shí)現(xiàn)較高的紅外發(fā)射率,由于鍺和聚酰亞胺本身的微波透明屬性實(shí)現(xiàn)微波透明。然后這種微波透明熱控薄膜的應(yīng)用也存在一定局限性,由于鍺在可見(jiàn)波段具有一定吸收,因此整體太陽(yáng)吸收率只能達(dá)到0.45左右,同時(shí)鍺在紅外波段也是透明的,因此紅外發(fā)射只能依靠基底聚酰亞胺來(lái)實(shí)現(xiàn),整體紅外發(fā)射率僅在0.7左右。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是要解決現(xiàn)有微波透明熱控薄膜整體太陽(yáng)吸收率能達(dá)到0.45左右,整體紅外發(fā)射率僅在0.7左右和微波透過(guò)率低的問(wèn)題,而提供一種微波透明熱控薄膜及其制備方法。
一種微波透明熱控薄膜為介質(zhì)膜沉積在基底材料表面;所述的介質(zhì)膜的層數(shù)≥2層,材質(zhì)為Ge膜、Si膜、MgF膜、SiO2膜、Ta2O5膜、TiO2膜、Ti3O5膜、ZnO膜和ZnS膜中的兩種膜或兩種以上膜。
一種微波透明熱控薄膜的制備方法是按以下步驟完成的:
一、基底材料的表面處理:
依次以丙酮、甲醇和超純水為溶劑對(duì)基底材料進(jìn)行超聲清洗,再烘干,得到表面處理后的基底材料;
二、使用離子束對(duì)室溫或者加熱的表面處理后的基底材料進(jìn)行轟擊,得到前處理的基底材料;
三、沉積介質(zhì)膜:
采用真空鍍膜法、磁控濺射法、真空熱蒸鍍法或電子束蒸鍍法在前處理的基底材料表面上沉積介質(zhì)膜,得到微波透明熱控薄膜;
步驟三所述的介質(zhì)膜的層數(shù)≥2層,材質(zhì)為Ge膜、Si膜、MgF膜、SiO2膜、Ta2O5膜、TiO2膜、Ti3O5膜、ZnO膜和ZnS膜中的兩種膜或兩種以上膜。
本發(fā)明的原理及優(yōu)點(diǎn):
一、本發(fā)明利用介質(zhì)膜可以設(shè)計(jì)優(yōu)化膜系結(jié)構(gòu),通過(guò)介質(zhì)膜的光學(xué)反射特性可以大幅降低熱控薄膜太陽(yáng)吸收率,提升紅外發(fā)射率,具有良好的熱控效果,本發(fā)明制備的微波透明熱控薄膜整體太陽(yáng)吸收率低于0.3,紅外發(fā)射率大于0.7,微波透過(guò)率達(dá)到90%以上;
二、本發(fā)明主要應(yīng)用于航天器熱控薄膜,特別是需要對(duì)雷達(dá)波段高透過(guò)的熱控涂層,該薄膜利用介質(zhì)膜堆疊,在可見(jiàn)波段形成高反射降低太陽(yáng)吸收率,紅外波段利用介質(zhì)膜和基底本身的高發(fā)射率特性形成高發(fā)射特性。
附圖說(shuō)明
圖1為實(shí)施例一制備的一種微波透明熱控薄膜的光譜圖;
圖2為實(shí)施例二制備的一種微波透明熱控薄膜的光譜圖;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于哈爾濱工業(yè)大學(xué),未經(jīng)哈爾濱工業(yè)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110015542.6/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





