[發明專利]一種微米三氧化二鉻及其制備方法在審
| 申請號: | 202110015296.4 | 申請日: | 2021-01-06 |
| 公開(公告)號: | CN114715938A | 公開(公告)日: | 2022-07-08 |
| 發明(設計)人: | 李波;張波;梁建;李武;馮海濤;董亞萍 | 申請(專利權)人: | 中國科學院青海鹽湖研究所 |
| 主分類號: | C01G37/033 | 分類號: | C01G37/033 |
| 代理公司: | 南京利豐知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 王鋒 |
| 地址: | 810000*** | 國省代碼: | 青海;63 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 微米 氧化 及其 制備 方法 | ||
本發明公開了一種微米三氧化二鉻及其制備方法。所述的制備方法包括:配制包含六價鉻化合物及還原劑的中性或堿性水溶液作為反應液,并使所述反應液于200~280℃的溫度條件下進行水熱反應,再經后處理獲得三維層狀一水合氫氧化鉻納米球;以及,將所述三維層狀一水合氫氧化鉻納米球于1200~1300℃焙燒,獲得微米三氧化二鉻。較之現有技術,本發明提供的微米三氧化二鉻制備工藝簡單可控、可以有效避免鉻損失、無含鉻廢渣排放,且所獲微米三氧化二鉻產品的結晶性能良好、形貌均一,適于在高端熔噴三氧化二鉻、冶金級三氧化二鉻等領域應用。
技術領域
本發明具體涉及一種微米三氧化二鉻、其制備方法及應用,屬于材料科學領域。
背景技術
目前,微米級以上的大尺寸三氧化二鉻在多個領域得到了廣泛應用?,F有的大尺寸三氧化二鉻的生產方法主要有兩種,即:硫還原鉻酸鈉制備冶金級三氧化二鉻,或者,通過1600℃以上經數十個小時的高溫熔融燒結氧化鉻綠,再經過破碎、篩分,得到微米級以上的大尺寸三氧化二鉻。但是,這兩種方法都存在明顯不足,例如,硫磺還原制備冶金級三氧化二鉻的過程會產生大量的含鉻硫酸鹽,需要繁瑣的后續解毒無害化處理,而高溫熔融燒結法存在能耗高,成品率低等問題。此外,這兩種方法所合成的微米級三氧化二鉻產品還存在形貌均一性及結晶性差等缺陷。
發明內容
本發明的主要目的在于提供一種微米三氧化二鉻及其制備方法,以克服現有技術中的不足。
為實現前述發明目的,本發明采用的技術方案包括:
本發明實施例提供了一種微米三氧化二鉻的制備方法,其包括:
配制包含六價鉻化合物及還原劑的中性或堿性水溶液作為反應液,并使所述反應液于200~280℃的溫度條件下進行水熱反應,再經后處理獲得三維層狀一水合氫氧化鉻納米球;
將所述三維層狀一水合氫氧化鉻納米球于1200~1300℃焙燒,獲得微米三氧化二鉻。
在一些實施方式中,所述反應液中所含六價鉻化合物的濃度為1~2mol/L。
在一些實施方式中,所述反應液為堿性。
本發明實施例還提供了由前述任意一種方法制備的微米三氧化二鉻。
較之現有技術,本發明實施例所提供技術方案的優點至少在于:提供的微米三氧化二鉻制備方法工藝簡單、可以有效避免鉻損失、無含鉻廢渣排放,且所獲微米三氧化二鉻的形貌均一可控、結晶性能良好,適于在高端熔噴三氧化二鉻、冶金級三氧化二鉻等領域應用。
附圖說明
為了更清楚地說明本發明實施方式的技術方案,下面將對實施方式中所需要使用的附圖作簡單地介紹,應當理解,以下附圖僅示出了本發明的某些實施例,因此不應被看作是對范圍的限定,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他相關的附圖。
圖1為實施例1得到的一種三維層狀一水合氫氧化鉻納米球的SEM照片,放大倍數為1萬倍;
圖2為實施例1得到的一種三維層狀一水合氫氧化鉻納米球的SEM照片,放大倍數為1.5萬倍;
圖3為實施例1得到的一種三維層狀一水合氫氧化鉻納米球的SEM照片,放大倍數為5萬倍;
圖4為實施例1得到的一種三維層狀一水合氫氧化鉻納米球的SEM照片,放大倍數為10萬倍;
圖5為實施例1得到的一種三維層狀一水合氫氧化鉻納米球的XRD圖;
圖6為實施例1得到的一種微米三氧化二鉻產品的SEM照片,放大倍數為2500倍;
圖7為實施例1得到的一種微米三氧化二鉻產品的SEM照片,放大倍數為5000倍;
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