[發(fā)明專利]用于離心電鍍機(jī)電鍍缸的排水系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110012348.2 | 申請日: | 2021-01-05 |
| 公開(公告)號: | CN112626594A | 公開(公告)日: | 2021-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄧才參;譚炳維 | 申請(專利權(quán))人: | 肇慶市英拓自動化設(shè)備科技有限公司 |
| 主分類號: | C25D17/18 | 分類號: | C25D17/18;C25D21/06;C25D21/10;C25D5/08 |
| 代理公司: | 深圳市科吉華烽知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44248 | 代理人: | 胡吉科 |
| 地址: | 526000 廣東省肇*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 離心 電鍍 機(jī)電 排水系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開了一種用于離心電鍍機(jī)電鍍缸的排水系統(tǒng),包括缸體,缸體的底板設(shè)有排水孔,排水孔安裝有過濾網(wǎng),所述底板固定安裝于一法蘭的上端面,法蘭的下端面中心連接有一傳動軸,所述傳動軸由驅(qū)動部件驅(qū)動旋轉(zhuǎn),所述法蘭的上端面設(shè)有緩沖儲水槽,所述排水孔通向所述緩沖儲水槽,所述傳動軸內(nèi)部中空形成排水通道,排水通道的上端與所述緩沖儲水槽相連通,排水通道的下端通過旋轉(zhuǎn)接頭與排水管連接,排水管上設(shè)有負(fù)壓泵。本發(fā)明可促進(jìn)藥水循環(huán)流動,具有排水速度快且排水無殘留等優(yōu)點(diǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明主要涉及離心電鍍機(jī)領(lǐng)域,特指一種用于離心電鍍機(jī)電鍍缸的排水系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在微型電子元器件的電鍍設(shè)備領(lǐng)域,離心電鍍機(jī)主要包括陽極裝置和電鍍缸,電鍍缸主要包括由電機(jī)驅(qū)動旋轉(zhuǎn)的缸體,陽極裝置接電流陽極,缸體的陰極環(huán)接電流陰極。工作時(shí),往缸體內(nèi)加入帶鍍層金屬離子的電鍍藥水,陽極裝置插入電鍍藥水中不斷向電鍍藥水補(bǔ)充鍍層金屬離子,利用缸體旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力,將缸體內(nèi)的微型電子元器件甩向陰極環(huán)內(nèi)壁并與陰極環(huán)內(nèi)壁碰撞后不斷翻滾,使微型電子元器件高效而均勻上鍍。
電鍍缸的缸體主要由陰極環(huán)、底板和上蓋組成,底板上設(shè)有排水孔,排水孔用來排出缸體內(nèi)的電鍍藥水。排水孔設(shè)有過濾網(wǎng),過濾網(wǎng)的網(wǎng)孔孔徑小于電鍍產(chǎn)品的尺寸,以避免電鍍產(chǎn)品掉入排水孔。對于微型電子元器件這種尺寸很小的電鍍產(chǎn)品,過濾網(wǎng)的網(wǎng)孔就要設(shè)置得非常小,但是過小的網(wǎng)孔又會導(dǎo)致排水困難,排水慢,而且無法徹底排盡。在電鍍完之后需要排空藥水時(shí),由于藥水無法排盡,后續(xù)清洗缸體的時(shí)候就只能用大量的水來稀釋殘留的藥水,導(dǎo)致清洗時(shí)間長,而且也無法完全清洗干凈,很容易在下一電鍍工序造成藥水交叉感染。再者,未排盡的藥水由于無法排回到藥水循環(huán)系統(tǒng),也造成了一定程度的藥水浪費(fèi)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于:針對現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷,提供一種可促進(jìn)藥水循環(huán)流動、排水速度快且排水無殘留的用于離心電鍍機(jī)電鍍缸的排水系統(tǒng)。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種用于離心電鍍機(jī)電鍍缸的排水系統(tǒng),包括缸體,缸體的底板設(shè)有排水孔,排水孔安裝有過濾網(wǎng),所述底板固定安裝于一法蘭的上端面,法蘭的下端面中心連接有一傳動軸,所述傳動軸由驅(qū)動部件驅(qū)動旋轉(zhuǎn),所述法蘭的上端面設(shè)有緩沖儲水槽,所述排水孔通向所述緩沖儲水槽,所述傳動軸內(nèi)部中空形成排水通道,排水通道的上端與所述緩沖儲水槽相連通,排水通道的下端通過旋轉(zhuǎn)接頭與排水管連接,排水管上設(shè)有負(fù)壓泵。
進(jìn)一步,所述底板的下端面對應(yīng)所述緩沖儲水槽的位置設(shè)有上凹的凹槽,凹槽與所述緩沖儲水槽共同構(gòu)成緩沖儲水腔。
進(jìn)一步,所述緩沖儲水槽和凹槽均呈圓形,且與所述傳動軸同軸布置。
進(jìn)一步,所述緩沖儲水槽的槽底面具有坡度,緩沖儲水槽與排水通道的連通口為坡度的最低點(diǎn)。
進(jìn)一步,所述傳動軸上套有導(dǎo)電環(huán),導(dǎo)電環(huán)通過碳刷向傳動軸導(dǎo)電。
進(jìn)一步,所述法蘭與傳動軸為一體成型。
進(jìn)一步,所述傳動軸通過軸承安裝于一軸承座內(nèi)。
進(jìn)一步,所述驅(qū)動部件為電機(jī),所述電機(jī)通過同步輪帶動傳動軸旋轉(zhuǎn)。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:1、本發(fā)明采用負(fù)壓下排方式排水,底板上的排水孔用來讓缸體內(nèi)的藥水持續(xù)緩慢排出,以保持藥水的流動性,緩沖儲水槽用來作為從排水孔排出藥水的緩沖過渡區(qū),負(fù)壓泵用來提供負(fù)壓,通過傳動軸內(nèi)部的中空排水通道將過多的藥水快速排出,以便缸體補(bǔ)充新的藥水,促進(jìn)藥水的循環(huán)流動;2、電鍍完之后需要排空藥水時(shí),在負(fù)壓泵的強(qiáng)大負(fù)壓力作用下,缸體內(nèi)的藥水能夠很容易地穿過底板上的排水孔,通過傳動軸內(nèi)部的中空排水通道迅速排出,從而保證缸體內(nèi)的藥水能夠全部排盡,避免藥水浪費(fèi),同時(shí)防止不同電鍍工序間的藥水交叉感染。
附圖說明
圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
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