[發明專利]用于離心電鍍機電鍍缸的排水系統在審
| 申請號: | 202110012348.2 | 申請日: | 2021-01-05 |
| 公開(公告)號: | CN112626594A | 公開(公告)日: | 2021-04-09 |
| 發明(設計)人: | 鄧才參;譚炳維 | 申請(專利權)人: | 肇慶市英拓自動化設備科技有限公司 |
| 主分類號: | C25D17/18 | 分類號: | C25D17/18;C25D21/06;C25D21/10;C25D5/08 |
| 代理公司: | 深圳市科吉華烽知識產權事務所(普通合伙) 44248 | 代理人: | 胡吉科 |
| 地址: | 526000 廣東省肇*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 離心 電鍍 機電 排水系統 | ||
1.一種用于離心電鍍機電鍍缸的排水系統,包括缸體,缸體的底板設有排水孔,排水孔安裝有過濾網,所述底板固定安裝于一法蘭的上端面,法蘭的下端面中心連接有一傳動軸,所述傳動軸由驅動部件驅動旋轉,其特征在于:所述法蘭的上端面設有緩沖儲水槽,所述排水孔通向所述緩沖儲水槽,所述傳動軸內部中空形成排水通道,排水通道的上端與所述緩沖儲水槽相連通,排水通道的下端通過旋轉接頭與排水管連接,排水管上設有負壓泵。
2.根據權利要求1所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水系統,其特征在于:所述底板的下端面對應所述緩沖儲水槽的位置設有上凹的凹槽,凹槽與所述緩沖儲水槽共同構成緩沖儲水腔。
3.根據權利要求2所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水系統,其特征在于:所述緩沖儲水槽和凹槽均呈圓形,且與所述傳動軸同軸布置。
4.根據權利要求1或2或3所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水系統,其特征在于:所述緩沖儲水槽的槽底面具有坡度,緩沖儲水槽與排水通道的連通口為坡度的最低點。
5.根據權利要求1或2或3所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水系統,其特征在于:所述傳動軸上套有導電環,導電環通過碳刷向傳動軸導電。
6.根據權利要求1或2或3所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水系統,其特征在于:所述法蘭與傳動軸為一體成型。
7.根據權利要求1或2或3所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水系統,其特征在于:所述傳動軸通過軸承安裝于一軸承座內。
8.根據權利要求1或2或3所述的用于離心電鍍機電鍍缸的排水系統,其特征在于:所述驅動部件為電機,所述電機通過同步輪帶動傳動軸旋轉。
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