[發明專利]顯示面板及其制備方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 202110011386.6
• 申請日: 2021-01-06
• 公開（公告）號: CN112768617A
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發明（設計）人: 李鎮石
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 呂姝娟

本申請提供一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置，所述顯示面板包括基板和陽極層；其中，所述陽極層包括層疊設置于所述基板上的第一金屬氧化層、第一金屬層、第二金屬氧化層、第二金屬層以及第三金屬氧化層。本申請通過將陽極層設計為第一金屬氧化層、第一金屬層、第二金屬氧化層、第二金屬層以及第三金屬氧化層的層疊結構，能夠有效避免現有技術中采用兩層氧化銦錫夾一層銀的陽極層結構時，最外層的氧化銦錫層上發生分層、斷裂以及剝落等現象后，暴露在外的銀層上發生腐蝕，從而破壞產品穩定性的問題。

技術領域

本申請涉及顯示技術領域，尤其涉及一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置。

背景技術

有機發光二極管顯示裝置(Organic Light Emitting Display，OLED)具有自發光、驅動電壓低、發光效率高、響應時間短、清晰度與對比度高、近180°視角、使用溫度范圍寬，可實現柔性顯示與大面積全色顯示等諸多優點，被業界公認為是最有發展潛力的顯示裝置；目前，有機發光二極管的陽極金屬結構，例如由氧化銦錫(ITO)形成的透明導電膜，具有透明性和導電性，已成功應用于光電工業。

現有技術中，陽極層一般采用氧化銦錫(ITO)-銀層(Ag)-氧化銦錫(ITO)的層疊結構，其透明性和導電性優異，特別是其導電率是單層氧化銦錫(ITO)的十倍左右，現已成功應用于光電工業；然而，在陽極層的層疊結構中，最外層的氧化銦錫層上容易發生分層、斷裂以及剝落等現象，從而導致暴露在外的銀層上發生腐蝕，進而破壞產品的穩定性。

發明內容

本申請提供了一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置，用以提升產品的可靠性。

為實現上述效果，本申請提供的技術方案如下：

一種顯示面板，包括：

基板；

陽極層，設置在所述基板上；

其中，所述陽極層包括層疊設置于所述基板上的第一金屬氧化層、第一金屬層、第二金屬氧化層、第二金屬層以及第三金屬氧化層。

本申請的顯示面板中，所述第一金屬氧化層的厚度和所述第二金屬氧化層的厚度均小于所述第三金屬氧化層的厚度。

本申請的顯示面板中，所述第一金屬氧化層、所述第二金屬氧化層以及所述第三金屬氧化層均為氧化銦錫膜。

本申請的顯示面板中，所述第一金屬層和所述第二金屬層均為銀層。

本申請還提供一種顯示面板的制備方法，所述顯示面板包括陽極區和與所述陽極區相鄰的非陽極區，所述制備方法包括以下步驟：

提供一基板；

在所述基板上依次制備第一金屬氧化層、第一金屬層、第二金屬氧化層、第二金屬層以及第三金屬氧化層；

對所述第三金屬氧化層、所述第二金屬層、所述第二金屬氧化層、所述第一金屬層以及所述第一金屬氧化層圖案化處理，形成位于所述陽極區的陽極層。

本申請的制備方法中，對所述第三金屬氧化層、所述第二金屬層、所述第二金屬氧化層、所述第一金屬層以及所述第一金屬氧化層圖案化處理的步驟包括：

在所述第三金屬氧化層上制備一光阻層；

采用掩模板對所述光阻層進行曝光、隨后對所述光阻層進行顯影，去除對應于所述非陽極區的所述光阻層；

依次刻蝕對應于所述非陽極區的所述第三金屬氧化層、所述第二金屬層、所述第二金屬氧化層、所述第一金屬層以及第一金屬氧化層；

剝離所述光阻層。