[發(fā)明專利]一種納米壓印制備OLED陽極的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110010052.7
• 申請日: 2021-01-06
• 公開（公告）號: CN112349869B
• 公開（公告）日: 2021-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孫揚;吳康敬;楊震元;李德權(quán);顏艷霜
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江宏禧科技有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56;G03F7/00
• 代理公司: 浙江杭州金通專利事務(wù)所有限公司 33100
• 代理人: 金麗英

1.一種納米壓印制備OLED陽極的方法，其特征在于，包括以下步驟；

步驟一，采用刻蝕法制備設(shè)有多個凹槽一的石英模板一、設(shè)有多個凹槽二的石英模板二，所述凹槽一與所述凹槽二位置相對應(yīng)，相鄰所述凹槽一之間的距離為0.8微米，所述凹槽二的寬度大于所述凹槽一的寬度；

步驟二，清洗具有驅(qū)動電路的硅基板：用丙酮和去離子水清洗硅基板，氮氣槍吹干后在50至70攝氏度的干燥箱中10分鐘去除硅基板上殘余的水汽；

步驟三，在所述硅基板上均勻旋涂一層紫外固化膠，先將所述石英模板一進(jìn)行防粘處理，用對準(zhǔn)工藝將所述石英模板一準(zhǔn)確壓印到所述紫外固化膠表面，用紫外光照射使所述紫外固化膠固化形成圖形化像素點，最后將所述石英模板一從所述硅基板上脫離；

步驟四，通過等離子體去除壓印后殘余在非像素區(qū)域的所述紫外固化膠；

步驟五，在所述石英模板二上面滴加聚二甲基硅氧烷，填滿所述凹槽二，用刮刀緩慢地刮除表面多余的所述聚二甲基硅氧烷；

步驟六，在固化后的所述石英模板二的凹槽二的對應(yīng)位置點涂一層粘附層聚乙酸乙烯酯，通過對準(zhǔn)工藝將帶有所述聚二甲基硅氧烷的所述石英模板二倒置在所述壓印后的硅基板上，施加應(yīng)力使兩者粘合，移除所述石英模板二后得到T型的微納結(jié)構(gòu)；

步驟七，蒸鍍陽極層，所述陽極層包括鈦膜層、鎳膜層、鋁膜層、鉑膜層中的至少一種導(dǎo)電膜層，所述陽極層厚度為40至60納米；

步驟八，采用N-甲基吡咯烷酮溶液、丙酮溶液中的一種溶液超聲除去所述T型結(jié)構(gòu)中的紫外固化膠、聚二甲基硅氧烷以及附著在所述T型結(jié)構(gòu)上陽極層。

2.如權(quán)利要求1所述納米壓印制備OLED陽極的方法，其特征在于：步驟三中所述的防粘處理具體操作是在無水環(huán)境中，將所述石英模板一浸泡在無水正辛烷比硅烷為200比1的混合溶液中2至3分鐘，取出后將所述石英模板一放在70攝氏度的無水正辛烷溶液中靜置20至30分鐘，在所述石英模板一表面形成低摩擦系數(shù)的疏水層。

3.如權(quán)利要求1所述納米壓印制備OLED陽極的方法，其特征在于：所述步驟四中所述等離子體采用的是氧氣等離子體，流量為20至30標(biāo)準(zhǔn)毫升每分鐘，功率為100至150瓦，刻蝕時間為10至30秒。

4.如權(quán)利要求1所述納米壓印制備OLED陽極的方法，其特征在于：步驟五中所述石英模板二上相鄰所述凹槽二之間的距離為0.6微米，聚二甲基硅氧烷是預(yù)聚體和固化劑以10比1質(zhì)量配比形成的混合溶液，在室溫下靜置1至2小時去除溶液中的氣泡，再緩慢倒入所述石英模板二中。

5.如權(quán)利要求1所述納米壓印制備OLED陽極的方法，其特征在于：步驟六中聚二甲基硅氧烷固化的條件是在70至80攝氏度的溫度下固化1至2小時，聚二甲基硅氧烷和聚乙酸乙烯酯之間的粘附能大于聚二甲基硅氧烷與所述石英模板二之間的粘附能。