[發(fā)明專利]一種裂紋釉和制備方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202110008973.X
• 申請日: 2021-01-05
• 公開（公告）號: CN112759263A
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 彭林;汪大谷
• 申請（專利權(quán)）人: 湖南華聯(lián)瓷業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C03C8/14
• 分類號: C03C8/14;C03C8/02;C04B41/86
• 代理公司: 北京風(fēng)雅頌專利代理有限公司 11403
• 代理人: 曾志鵬

1.一種裂紋釉，其特征是，包括如下重量份的組分：石英5-15份，方解石10-25份，高嶺土5-10份，高鈣低鋁熔塊20-40份，碳酸鋇20-70份，白云石3-15份，鈉長石10-40份，燒鋅1-5份。

2.如權(quán)利要求1所述的裂紋釉，其特征是，所述高鈣低鋁熔塊中，氧化鈣的重量含量為15.8-16.8％，氧化鋁的重量含量為6.2-7.2％。

3.如權(quán)利要求1所述的裂紋釉，其特征是，所述裂紋釉的厚度為0.25-0.4mm。

4.如權(quán)利要求1所述的裂紋釉，其特征是，所述裂紋釉的漿料的平均粒徑為40-60μm。

5.一種如權(quán)利要求1-4任一項所述的裂紋釉的制備方法，其特征是，包括如下步驟：

1)按照各組份和各組份質(zhì)量份備料，將原料組分濕法球磨，得到釉料；

2)釉料出球磨機后過篩，得到釉漿，加水和電解質(zhì)分別調(diào)節(jié)釉漿的濃度和觸變性；

3)取釉坯浸在釉漿中，干燥后釉坯進行燒成，最低燒成溫度為1180-1200℃，最高燒成溫度為1260-1280℃，得到所述裂紋釉。

6.如權(quán)利要求5所述裂紋釉的制備方法，其特征在于，步驟1)所述釉料細度325目篩余0.1-0.2％，或者，步驟2)所述釉漿的平均粒徑為40-60um。

7.如權(quán)利要求5或6所述裂紋釉的制備方法，其特征在于，步驟1)中將原料組分濕法球磨時，將原料、高鋁球石和水混合，原料、高鋁球石和水的質(zhì)量比為1:2:0.55，所述高鋁球石中大球石、中球石、小球石的質(zhì)量比為2：5：3。

8.如權(quán)利要求5或6所述裂紋釉的制備方法，其特征在于，步驟2)所述釉漿的濃度為45-55Be°。

9.如權(quán)利要求5或6所述裂紋釉的制備方法，其特征在于，步驟2)所述電解質(zhì)為氯化氨或三聚磷酸鈉。

10.如權(quán)利要求5或6所述裂紋釉的制備方法，其特征在于，步驟2)釉料出球磨機后過120目篩。