[發(fā)明專利]一種柔性透明太陽能水解光電極及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110008027.5 | 申請日： | 2021-01-05 |
| 公開（公告）號： | CN112853266B | 公開（公告）日： | 2023-02-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉守法;張麗娟;肖傳軍 | 申請（專利權(quán)）人： | 西京學(xué)院 |
| 主分類號： | C23C14/08 | 分類號： | C23C14/08;C23C14/35;C23C14/28;C25B1/04;C25B1/55;C25B11/053;C25B11/091;C25B11/067 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 柔性 透明 太陽能 水解 電極 及其 制備 方法 | ||
1.一種柔性透明太陽能水解光電極的制備方法，其特征在于，該制備方法包含：
(1)以氧化鋅作為靶材，以白云母作為基板，采用磁控濺射法在基板上制備氧化鋅緩沖層，在惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行，磁控濺射溫度為350～500℃，壓力為1～3Pa，濺射電壓為600V，濺射功率為90～110W；
(2)將鍍有氧化鋅緩沖層的基板在真空環(huán)境下熱至400℃，并通入1：1的氬氣和氧氣的混合氣體，以50W的功率預(yù)鍍，然后以氧化銦錫為靶材采用磁控濺射法在基板上制備氧化銦錫層，將氧化銦錫鍍在氧化鋅緩沖層上，濺射電壓為600V，濺射功率為90～110W，氧化銦錫中氧化銦與二氧化錫的質(zhì)量比為9：1；
(3)以鈦酸鍶為靶材，利用脈沖激光沉積法在基板上制備鈦酸鍶薄膜，將鈦酸鍶薄膜沉積在氧化銦錫層上，靶材表面的能量密度為1.5J/cm2，脈沖頻率為10Hz，沉積過程中通入1：1的氬氣和氧氣的混合氣體，沉積溫度為600～660℃。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性透明太陽能水解光電極的制備方法，其特征在于，在步驟(1)中，磁控濺射溫度為350℃，磁控濺射壓力為3Pa，濺射電壓為600V，濺射功率為90W；在步驟(2)中，濺射電壓為600V，濺射功率為110W；在步驟(3)中，沉積溫度為600℃。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性透明太陽能水解光電極的制備方法，其特征在于，在步驟(1)中，磁控濺射溫度為400℃，磁控濺射壓力為2Pa，濺射電壓為600V，濺射功率為100W；在步驟(2)中，濺射電壓為600V，濺射功率為90W；在步驟(3)中，沉積溫度為630℃。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性透明太陽能水解光電極的制備方法，其特征在于，在步驟(1)中，磁控濺射溫度為500℃，磁控濺射壓力為1Pa，濺射電壓為600V，濺射功率為110W；在步驟(2)中，濺射電壓為600V，濺射功率為100W；在步驟(3)中，沉積溫度為660℃。
5.如權(quán)利要求1-4中任意一項所述的方法制備的柔性透明太陽能水解光電極。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
