[發(fā)明專利]一種無顆粒脫落風(fēng)險的薄片形吸氣劑的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110007220.7
• 申請日: 2021-01-05
• 公開（公告）號: CN112871125B
• 公開（公告）日: 2023-07-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 郭衛(wèi)斌;薛函迎;柴云川;王瀏杰
• 申請（專利權(quán)）人: 南京華東電子真空材料有限公司
• 主分類號: B01J20/02
• 分類號: B01J20/02;B01J20/28;B01J20/30;C23C16/06;C23F1/40;C23F1/44;C25D3/22;C25D5/50;C25D7/06
• 代理公司: 南京君陶專利商標(biāo)代理有限公司 32215
• 代理人: 嚴(yán)海晨

1.一種無顆粒脫落風(fēng)險的薄片形吸氣劑的制備方法，其特征是對厚度小于1mm、薄片狀的、鈦重量百分含量大于50%的鈦合金或鋯重量百分含量大于50%的鋯合金進(jìn)行以下步驟的表面處理：

（1）在合金表面沉積造型金屬；

（2）加熱，使合金與造型金屬鋅發(fā)生合金化反應(yīng)；

（3）腐蝕造型金屬。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無顆粒脫落風(fēng)險的薄片形吸氣劑的制備方法，其特征是所述步驟（1）中，合金為薄片狀的鈦合金或鋯合金，厚度為50到200微米。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無顆粒脫落風(fēng)險的薄片形吸氣劑的制備方法，其特征是所述步驟（1）中，所述沉積方式為電鍍、化學(xué)鍍、CVD或PVD。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無顆粒脫落風(fēng)險的薄片形吸氣劑的制備方法，其特征是所述步驟（1）中，所示造型金屬為能與薄片合金基底形成表面合金化的活潑材料。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無顆粒脫落風(fēng)險的薄片形吸氣劑的制備方法，其特征是所述步驟（1）沉積造型金屬時，采用光刻工藝進(jìn)行局部保護(hù)，生產(chǎn)特定的圖形。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無顆粒脫落風(fēng)險的薄片形吸氣劑的制備方法，其特征是所述步驟（3）中，通過化學(xué)腐蝕或者電解去除合金中的造型金屬，留下表層具有納米結(jié)構(gòu)、比表面積巨大的鈦合金或鋯合金。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無顆粒脫落風(fēng)險的薄片形吸氣劑的制備方法，其特征是所述步驟（1）中薄片合金上設(shè)有表面沉積有可以降低激活溫度的吸氣合金薄膜。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種無顆粒脫落風(fēng)險的薄片形吸氣劑的制備方法，其特征是所述步驟（1）在薄片合金兩面同時沉積造型金屬，步驟（2）薄片合金兩面同時與造型金屬鋅發(fā)生合金化反應(yīng)；（3）同時腐蝕兩面的造型金屬，得到雙面的薄片形吸氣劑。