[發明專利]傳感器數據的處理方法、裝置、電子設備及存儲介質有效
| 申請號: | 202110000711.9 | 申請日: | 2021-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN112330536B | 公開(公告)日: | 2021-04-09 |
| 發明(設計)人: | 王宇翔;蘇永恒;吳功友;佟雨;郭云肖;張雪萍;姜文俊 | 申請(專利權)人: | 航天宏圖信息技術股份有限公司 |
| 主分類號: | G06T3/00 | 分類號: | G06T3/00;G06F17/16;G01B11/00 |
| 代理公司: | 北京超成律師事務所 11646 | 代理人: | 許書音 |
| 地址: | 100195 北京市海*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 傳感器 數據 處理 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
1.一種傳感器數據的處理方法,其特征在于,包括:
獲取目標傳感器的視場射線集合,所述視場射線集合用于表征所述目標傳感器指向目標遮擋物的三維視場范圍;
根據所述視場射線集合,確定目標二維平面內的復合多邊形,所述復合多邊形為所述目標傳感器的視場射線和目標遮擋物投影至所述目標二維平面得到的多邊形;
確定所述復合多邊形的交集與差集;
將所述交集與所述差集內的二維坐標點進行坐標轉換,得到所述二維坐標點對應在目標三維坐標系中的三維坐標點;
其中,所述根據所述視場射線集合,確定目標二維平面的復合多邊形,包括:
確定所述目標二維平面,并基于所述目標二維平面,構建所述目標傳感器的視場射線與所述目標遮擋物之間的遮擋模型;
基于所述遮擋模型,確定所述視場射線集合對應在所述目標二維平面上的第一投影集合,以及確定所述目標遮擋物的第二投影集合,所述第一投影集合用于表征所述目標傳感器的視場射線投影在目標二維平面內的二維視場范圍,所述第二投影集合用于表征所述目標遮擋物被投影在所述二維平面內的二維投影范圍;
將所述第一投影集合與所述第二投影集合組成所述復合多邊形。
2.根據權利要求1所述的傳感器數據的處理方法,其特征在于,所述獲取目標傳感器的視場射線集合之前,還包括:
獲取目標傳感器的指向矩陣,所述指向矩陣用于表征所述目標傳感器在目標坐標系下的姿態;
將所述指向矩陣與目標旋轉矩陣相乘,得到所述目標傳感器指向所述目標遮擋物的姿態矩陣,所述目標旋轉矩陣為所述目標傳感器的姿態調整為指向所述目標遮擋物時的旋轉變化矩陣;
將所述姿態矩陣與目標移動矩陣相乘,得到所述視場射線集合,所述目標移動矩陣為所述目標傳感器的位置調整至目標位置時的移動變化矩陣。
3.根據權利要求2所述的傳感器數據的處理方法,其特征在于,所述獲取目標傳感器的指向矩陣之前,還包括:
獲取所述目標傳感器的附著對象在目標坐標系下的空間位置,以及所述目標傳感器的指向參數;
根據所述空間位置和所述指向參數,運算出所述目標傳感器的視場射線的射線中心;
將所述射線中心進行矩陣化,得到所述目標傳感器在所述目標坐標系中的指向矩陣。
4.根據權利要求3所述的傳感器數據的處理方法,其特征在于,所述根據所述指向參數,運算出所述目標傳感器的視場射線的射線中心之前,還包括:
對所述指向參數進行合理性驗證;
若所述指向參數符合預設合理性條件,則執行所述根據所述指向參數,運算出所述目標傳感器的視場射線的射線中心的步驟。
5.根據權利要求1所述的傳感器數據的處理方法,其特征在于,所述基于所述遮擋模型,確定所述視場射線集合對應在所述目標二維平面上的第一投影集合,以及確定所述目標遮擋物的第二投影集合,包括:
在所述目標遮擋物未遮擋所述目標傳感器的視場射線的情況下,將所述視場射線集合投影至所述目標二維平面上,得到所述第一投影集合;
基于所述遮擋模型,以所述目標傳感器為投影中心,以所述目標二維平面為投影平面,對所述目標遮擋物進行投影,得到所述目標遮擋物的所述第二投影集合。
6.根據權利要求1所述的傳感器數據的處理方法,其特征在于,所述確定所述復合多邊形的交集與差集,包括:
確定所述第一投影集合和所述第二投影集合對應在所述目標二維平面上的投影邊界交點;
基于所述投影邊界交點進行邊的跟蹤,構建所述交集的第一邊界和所述差集的第二邊界;
基于所述第一邊界的方向性和所述第二邊界的方向性,確定所述交集與所述差集。
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