[發明專利]R-T-B系燒結磁體的制造方法和R-T-B系燒結磁體

在審

• 申請號: 202080089947.8
• 申請日: 2020-12-24
• 公開（公告）號: CN114867572A
• 公開（公告）日: 2022-08-05
• 發明（設計）人: 藤森信彥;小幡徹;園田和博;國吉太;古澤大介;槙智仁;三野修嗣;齋藤康太
• 申請（專利權）人: 日立金屬株式會社
• 主分類號: B22F9/04
• 分類號: B22F9/04;H01F1/057;H01F41/02;C22C38/00;B22F3/02;B22F3/10;C22C33/02;B22F1/14;B22F1/05;B22F3/24
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;張岑堯

本發明的R－T－B系燒結磁體的制造方法包括：準備平均粒度為10μm以上500μm以下的R－T－B系燒結磁體用合金的粗粉碎粉的工序；向粉碎室被不活潑氣體充滿的噴射磨裝置供給上述粗粉碎粉并對上述粗粉碎粉進行粉碎，得到平均粒度為2.0μm以上4.5μm以下的微粉末的工序；和制作上述微粉末的燒結體的工序，上述不活潑氣體被加濕，上述R－T－B系燒結磁體的氧的含量以質量比計為1000ppm以上3500ppm以下。

技術領域

本發明涉及R-T-B系燒結磁體的制造方法和R-T-B系燒結磁體。

背景技術

R-T-B系燒結磁體(R為稀土元素且必須包含選自Nd、Pr和Ce中的至少1種，T為過渡金屬中的至少1種且必須包含Fe，B為硼)由具有R₂Fe₁₄B型結晶結構的化合物的主相、位于該主相的晶界部分的晶界相和因微量添加元素或雜質的影響而生成的化合物相構成，顯示高的剩余磁通密度B_r(以下有時簡稱為“B_r”)和高的矯頑力H_cJ(以下有時簡稱為“H_cJ”)，具有優異的磁特性，因此已知是永磁體中性能最高的磁體。因此，已用于硬盤驅動器的音圈電機(VCM)、電動汽車(EV、HV、PHV)用電動機、工業設備用電動機等各種電動機和家電制品等多種多樣的用途。

這樣的R-T-B系燒結磁體例如經由準備合金粉末的工序、將合金粉末壓制成型而制作粉末成型體的工序、對粉末成型體進行燒結的工序而制造。合金粉末例如利用以下的方法制作。

首先，利用鑄錠法或薄帶連鑄法等方法由各種原料金屬的熔湯制造合金。將所得到的合金供于粉碎工序，得到具有規定的粒徑分布的合金粉末。該粉碎工序通常包括粗粉碎工序和微粉碎工序，前者例如利用氫脆化現象進行，后者例如利用氣流式粉碎機(噴射磨)進行。

對于這樣的利用粉碎工序得到的合金粉末，例如利用旋風式捕集裝置進行固氣分離，從而回收(捕集)R-T-B系燒結磁體用合金粉末。

對于R-T-B系燒結磁體，要求進一步高性能化和低成本化。作為高性能化的方法，例如可以列舉組織的微細化、降低含氧量等；作為低成本化的方法，例如可以列舉提高粉碎效率等。在專利文獻1中，作為提高粉碎效率的方法，公開了一種使用加濕到露點-20℃～0℃后的不活潑氣體氣流進行噴射磨粉碎的方法。在專利文獻2中也記載了相同的方法。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平8-148317號公報

專利文獻2：日本特開平6-140220號公報

發明內容

發明所要解決的技術問題

在制作以降低了含氧量、例如氧的含量以質量比計為3500ppm以下的R₂T₁₄B相為主相的R-T-B系燒結磁體的情況下，為了防止粉末顆粒在粉碎工序中氧化，例如可以使用高純度的氮氣作為不活潑氣體。

根據本發明的發明人的研究可知，在使用高純度的氮氣等不活潑氣體實施噴射磨粉碎的情況下，低氧時，有時無法實現預想的高性能化。另外，使粉末微細化而實現高性能化時，進行微細化會犧牲粉碎效率。關于粉碎效率，也有專利文獻1、2所公開的方法，但專利文獻1、2所公開的構成是為了抑制反應性而成為超過4500ppm這樣的高氧含量的技術，無法在低氧化所帶來的高性能化中應用。本發明的實施方式提供能夠解決這樣的問題的R-T-B系燒結磁體的制造方法和R-T-B系燒結磁體。

用于解決技術問題的技術方案