[發明專利]用于增強CO2 在審
| 申請號： | 202080084189.0 | 申請日： | 2020-10-20 |
| 公開（公告）號： | CN114788101A | 公開（公告）日： | 2022-07-22 |
| 發明（設計）人： | 劉飛;黃壯雄;夏寒;U·P·戈梅斯;L·尤班斯基;I·V·福門科夫;陶寅 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | H01S3/036 | 分類號： | H01S3/036 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人： | 趙林琳 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 增強 co base sub | ||
1.一種用于激光器的功率放大器，所述功率放大器包括：
氣體激光器腔室，被配置為容納流動氣體混合物；
氣體激光器功率源，被耦合到所述氣體激光器腔室，并且被配置為向所述流動氣體混合物供應能量以輸出激光束；
催化劑腔室，被耦合到所述氣體激光器腔室并且包括催化劑，所述催化劑被配置為對所述流動氣體混合物中的離解分子進行再氧化；
反饋裝置，被耦合到所述氣體激光器腔室和/或所述激光束，并且被配置為測量所述功率放大器的特性；以及
處理器，被耦合到所述催化劑腔室和所述反饋裝置，
其中所述處理器被配置為：
(a)基于經測量的所述特性，對所述流動氣體混合物于所述催化劑腔室中的所述催化劑的暴露量進行調整；和/或
(b)基于經測量的所述特性，對所述流動氣體混合物中的一種或多種組分通過所述氣體激光器腔室的流量進行調整；和/或
(c)基于經測量的所述特性，對所述催化劑腔室中的所述催化劑的溫度進行調整。
2.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述特性包括所述激光束的輸出功率。
3.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述特性包括所述激光束的增益。
4.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述特性包括所述氣體激光器腔室中的所述流動氣體混合物的組分的濃度。
5.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述特性包括光譜特征。
6.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述特性包括色譜特征和/或質譜特征。
7.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述反饋裝置包括光學光譜儀。
8.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述反饋裝置包括氣體傳感器。
9.根據權利要求8所述的功率放大器，其中所述氣體傳感器包括催化探針，所述催化探針被配置為選擇性地對所述流動氣體混合物中的一種或多種組分的濃度進行測量。
10.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述反饋裝置包括殘余氣體分析器(RGA)。
11.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述反饋裝置包括氣相色譜儀和/或質譜儀。
12.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述反饋裝置包括光學檢測器。
13.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述催化劑包括霍加拉特、Co3O4、鈀、鉑、銥、銅、金、和/或它們的組合或子組合。
14.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述催化劑腔室包括鼓風機和溫度控制模塊，所述鼓風機被配置為對所述催化劑腔室中的流量進行調整，所述溫度控制模塊被配置為調整所述催化劑的溫度以調整再結合的速率。
15.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述處理器被配置為：對所述流動氣體混合物的流速進行調制，以穩定所述激光束的輸出功率。
16.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述處理器被配置為：對所述流動氣體混合物于所述催化劑腔室中的所述催化劑的暴露量進行實時調整。
17.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述處理器被配置為：對所述催化劑腔室中的流量和/或所述催化劑腔室中的所述催化劑的溫度進行實時調整。
18.根據權利要求1所述的功率放大器，其中所述流動氣體混合物包括一種或多種組分。
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