[發明專利]基板輸送裝置和基板處理系統

在審

• 申請號: 202080080938.2
• 申請日: 2020-11-20
• 公開（公告）號: CN114731104A
• 公開（公告）日: 2022-07-08
• 發明（設計）人: 波多野達夫;宮下哲也;渡邊直樹;鈴木直行
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H02K41/03
• 分類號: H02K41/03
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

提供一種輸送基板的基板輸送裝置。基板輸送裝置包括：第1平面馬達，其設于第1室，并具有排列著的線圈；第2平面馬達，其設于與所述第1室連接的第2室，并具有排列著的線圈；一對輸送單元，其在所述第1平面馬達和/或所述第2平面馬達上移動，并能夠輸送基板；以及控制部，其控制所述第1平面馬達和所述第2平面馬達的線圈的通電。

技術領域

本公開涉及基板輸送裝置和基板處理系統。

背景技術

例如，公知有具備多個處理室和與處理室連接的真空輸送室的基板處理系統。在真空輸送室內設有用于輸送基板的基板輸送裝置。

在專利文獻1公開有具備多個處理模塊和輸送模塊的處理站。在輸送模塊設有由多關節臂構成的晶圓輸送機構。

此外，在專利文獻2公開有使用平面馬達輸送基板的半導體處理設備。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2017-168866號公報

專利文獻2：日本特表2018-504784號公報

發明內容

發明要解決的問題

在專利文獻1所公開的處理站中，在成為真空氣氛的輸送模塊內設有多個多關節臂，以向多個處理模塊輸送基板。有可能成為發塵源的馬達配置于輸送模塊外，多關節臂的旋轉軸貫穿輸送模塊的底面地配置，底面和旋轉軸之間由磁密封件密封。因此，存在難以將輸送模塊內保持為高真空的問題。此外，在專利文獻2所公開的系統中，存在操作性差且需要擴大腔室的開口的問題。

本公開的一技術方案提供輸送基板的基板輸送裝置。

用于解決問題的方案

本公開的一技術方案的基板輸送裝置包括：第1平面馬達，其設于第1室，并具有排列著的線圈；第2平面馬達，其設于與所述第1室連接的第2室，并具有排列著的線圈；一對輸送單元，其在所述第1平面馬達和/或所述第2平面馬達上移動，并能夠輸送基板；以及控制部，其控制所述第1平面馬達和所述第2平面馬達的線圈的通電。

發明的效果

根據本公開的一技術方案，提供輸送基板的基板輸送裝置。

附圖說明

圖1是表示一實施方式的基板處理系統的一例的結構的俯視圖。

圖2是說明基板輸送機構的驅動原理的立體圖。

圖3A是表示一實施方式的輸送單元的一例的俯視圖。

圖3B是表示一實施方式的輸送單元的一例的俯視圖。

圖4A是表示一實施方式的輸送單元的一例的圖。

圖4B是表示一實施方式的輸送單元的一例的圖。

圖4C是表示一實施方式的輸送單元的一例的圖。

圖5A是說明將晶圓從輸送單元向另一輸送單元交接的步驟的示意圖。

圖5B是說明將晶圓從輸送單元向另一輸送單元交接的步驟的示意圖。

圖5C是說明將晶圓從輸送單元向另一輸送單元交接的步驟的示意圖。

圖6A是說明輸送單元從真空輸送室向處理室移動時的動作的示意圖。

圖6B是說明輸送單元從真空輸送室向處理室移動時的動作的示意圖。

圖6C是說明輸送單元從真空輸送室向處理室移動時的動作的示意圖。

具體實施方式