[發明專利]基板輸送裝置和基板處理系統

在審

• 申請號: 202080080938.2
• 申請日: 2020-11-20
• 公開（公告）號: CN114731104A
• 公開（公告）日: 2022-07-08
• 發明（設計）人: 波多野達夫;宮下哲也;渡邊直樹;鈴木直行
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H02K41/03
• 分類號: H02K41/03
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種基板輸送裝置，其中，

該基板輸送裝置包括：

第1平面馬達，其設于第1室，并具有排列著的線圈；

第2平面馬達，其設于與所述第1室連接的第2室，并具有排列著的線圈；

一對輸送單元，其在所述第1平面馬達和/或所述第2平面馬達上移動，并能夠輸送基板；以及

控制部，其控制所述第1平面馬達和所述第2平面馬達的線圈的通電。

2.根據權利要求1所述的基板輸送裝置，其中，

所述輸送單元包括：

基座，其具有排列著的磁體，并在所述第1平面馬達和/或所述第2平面馬達上磁懸浮；以及

基板支承構件，其設于所述基座，用于支承基板。

3.根據權利要求1或2所述的基板輸送裝置，其中，

所述控制部在維持著一對所述輸送單元的相對的位置關系的狀態下使一對所述輸送單元移動。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的基板輸送裝置，其中，

所述第1室是輸送室，

所述第2室具有載置所述基板的載置臺。

5.根據權利要求4所述的基板輸送裝置，其中，

所述第2室是處理室和/或加載互鎖室。

6.根據權利要求1～3中任一項所述的基板輸送裝置，其中，

所述第1室和所述第2室借助通路連接。

7.根據權利要求6所述的基板輸送裝置，其中，

所述通路是閘閥。

8.一種基板處理系統，其中，

該基板處理系統包括：

所述第1室；

所述第2室；以及

權利要求1～7中任一項所述的基板輸送裝置。

9.根據權利要求8所述的基板處理系統，其中，

所述第1室是真空氣氛的真空輸送室。