[發(fā)明專利]用于DAX光柵的穩(wěn)定頂部橋制造

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202080068056.4
• 申請日: 2020-08-18
• 公開（公告）號: CN114467022A
• 公開（公告）日: 2022-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: T·克勒;A·亞羅申科;G·福格特米爾;B·R·戴維;J·莫爾;P·R·M·范比爾斯;P·邁爾;M·里希特;J·舒爾茨
• 申請（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: G01N23/041
• 分類號: G01N23/041;G01N23/046
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 孟杰雄

為了改進(jìn)用于X射線暗場成像和/或X射線相襯成像的具有頂部橋的X射線光柵的機(jī)械穩(wěn)定性，提出了通過制造過程的變化來減少或防止頂部橋上的不期望的高應(yīng)力。具體地，提出了在彎曲之后對頂部橋進(jìn)行電鍍。換言之，在彎曲的幾何結(jié)構(gòu)上執(zhí)行對頂部橋的電鍍。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及用于產(chǎn)生成像裝置的X射線光柵的方法，所述成像裝置用于X射線暗場成像和/或X射線相襯成像。本發(fā)明還涉及一種由所述方法產(chǎn)生的微結(jié)構(gòu)、一種成像裝置、一種執(zhí)行X射線相襯和/或暗場成像的方法。

背景技術(shù)

基于光柵的相襯和暗場X射線(DAX)成像是例如在乳房攝影、胸部放射攝影和計(jì)算機(jī)斷層攝影(CT)的領(lǐng)域中增強(qiáng)X射線裝備的診斷質(zhì)量的有前景的技術(shù)。基于該技術(shù)來構(gòu)建臨床系統(tǒng)的最具挑戰(zhàn)性的問題之一是光柵的制造。具體地，源光柵G0和吸收光柵G2可以要求在超過200μm的黃金高度具有大約幾μm到幾十μm的間距的光柵結(jié)構(gòu)以便實(shí)現(xiàn)跨X射線管的整個(gè)光譜的充分衰減，尤其是在該管提供在高于30到40keV的能量范圍內(nèi)的光子的情況下。

通過光刻制造的聚合物結(jié)構(gòu)(抗蝕劑結(jié)構(gòu))可以用于通過用強(qiáng)X射線吸收材料(例如，黃金)填充聚合物模板來進(jìn)行光柵制造。如果光柵被用作源光柵G0，那么觀察到，抗蝕劑不能承受熱和輻射負(fù)荷，并且整個(gè)光柵變得不穩(wěn)定。因此，計(jì)劃在電鍍之后剝離抗蝕劑。為了確保光柵薄片的機(jī)械穩(wěn)定性，它們需要通過在光柵的頂部上電鍍額外的橋來連接。為了訪問完整視場，源光柵G0需要被彎曲。然而，彎曲的頂部橋能夠經(jīng)歷高機(jī)械應(yīng)力。

發(fā)明內(nèi)容

可能需要改進(jìn)用于X射線暗場成像和/或X射線相襯成像的具有頂部橋的X射線光柵的機(jī)械穩(wěn)定性。

本發(fā)明的目標(biāo)由獨(dú)立權(quán)利要求的主題解決，其中，另外的實(shí)施例被并入在從屬權(quán)利要求中。應(yīng)當(dāng)注意，本發(fā)明的以下描述的方面也適用于用于產(chǎn)生X射線光柵的方法、微結(jié)構(gòu)、成像裝置、執(zhí)行X射線相襯和/或暗場成像的方法。

本發(fā)明的第一方面提供了一種用于產(chǎn)生成像裝置的X射線光柵的方法，所述成像裝置用于X射線暗場成像和/或X射線相襯成像。所述方法包括以下步驟：

a)在平坦樣本上產(chǎn)生具有多個(gè)周期性布置的光柵網(wǎng)和光柵開口的抗蝕劑負(fù)光柵；

b)通過以下操作通過電鍍來填充所述平坦樣本上的所述光柵開口：持續(xù)進(jìn)行所述電鍍直到所述光柵網(wǎng)的高度以形成光柵薄片；

c)在所述抗蝕劑負(fù)光柵的頂部上處理窗體，所述窗體使得能夠引入基本上垂直于所述光柵網(wǎng)的頂部橋；

d)使所述抗蝕劑負(fù)光柵彎曲到期望半徑；并且

e)通過電鍍來填充所述窗體以在使所述抗蝕劑負(fù)光柵彎曲之后形成所述頂部橋。

換言之，提出了通過制造過程的變化來減小或防止頂部橋上的不期望的高應(yīng)力。具體地，提出了在彎曲之后對頂部橋進(jìn)行電鍍。換言之，在彎曲的幾何結(jié)構(gòu)上執(zhí)行對頂部橋的電鍍。詳細(xì)制造過程將在后文并且具體地參考圖1和圖2A至2G中的示例性實(shí)施例解釋。

將意識到，以上操作可以以任何適當(dāng)?shù)捻樞?例如，連續(xù)地、同時(shí)地或其組合)執(zhí)行，在適用的情況下，服從必需的特定順序，例如，在頂部橋被電鍍之前彎曲。

例如，交換步驟b)和c)是可能的。過程將如下：

a1)在平坦樣本上產(chǎn)生具有多個(gè)周期性布置的光柵網(wǎng)和光柵開口的抗蝕劑負(fù)光柵，即步驟a)；

b1)在所述抗蝕劑負(fù)光柵的頂部上處理窗體，所述窗體使得能夠引入基本上垂直于所述光柵網(wǎng)的頂部橋，即步驟c)；

c1)通過以下操作通過電鍍來填充所述平坦樣本上的所述光柵開口：持續(xù)進(jìn)行所述電鍍直到所述光柵網(wǎng)的高度以形成光柵薄片，即步驟b)；

d1)使所述抗蝕劑負(fù)光柵彎曲到期望半徑，即步驟d)；并且