[發明專利]用于激光持續等離子體照明源的旋轉燈

在審

• 申請號: 202080062839.1
• 申請日: 2020-09-22
• 公開（公告）號: CN114365261A
• 公開（公告）日: 2022-04-15
• 發明（設計）人: I·貝澤爾;L·茲韋德努科;A·斯捷潘諾夫;M·德明斯基;B·波塔普金
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: H01J65/04
• 分類號: H01J65/04;H01J61/26;H01J37/32;H05H1/24
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉麗楠

1.一種寬帶源，其包括：

可旋轉氣體圍阻結構，其用于圍阻氣體；

旋轉驅動系統，其經配置以使所述可旋轉氣體圍阻結構繞軸旋轉；

泵浦源，其經配置以產生泵浦照明；及

反射器元件，其經配置以將所述泵浦照明的部分引導到所述氣體中以持續等離子體，其中所述反射器經配置以收集從所述等離子體發射的寬帶光的至少一部分。

2.根據權利要求1所述的系統，其中所述旋轉驅動系統經配置以使所述可旋轉氣體圍阻結構繞水平軸旋轉。

3.根據權利要求2所述的系統，其中所述反射器元件經定向使得所述反射器元件的反射性表面沿著水平方向接收所述泵浦照明。

4.根據權利要求1所述的系統，其中所述旋轉驅動系統經配置以依足以抑制所述等離子體的羽流的旋轉速度旋轉所述可旋轉氣體圍阻結構。

5.根據權利要求1所述的系統，其中所述旋轉驅動系統經配置以旋轉所述可旋轉氣體圍阻結構足以在所述等離子體中產生旋轉對稱的溫度分布。

6.根據權利要求1所述的系統，其中所述旋轉驅動系統經配置以依10與20,000RPM之間的旋轉速度旋轉所述可旋轉氣體圍阻結構。

7.根據權利要求6所述的系統，其中所述旋轉驅動系統經配置以依1000與8000RPM之間的旋轉速度旋轉所述可旋轉氣體圍阻結構。

8.根據權利要求6所述的系統，其中所述旋轉驅動系統經配置以依10與600RPM之間的旋轉速度旋轉所述可旋轉氣體圍阻結構。

9.根據權利要求1所述的系統，其中所述反射器元件包括橢圓形或拋物線形反射器元件。

10.根據權利要求1所述的系統，其中所述旋轉驅動系統包括：

發動機；及

軸件，其中所述軸件經耦合到所述可旋轉氣體圍阻結構且所述發動機經配置以經由所述軸件旋轉所述可旋轉氣體圍阻結構。

11.根據權利要求10所述的系統，其中所述軸件穿過所述反射器元件的敞開出入孔。

12.根據權利要求1所述的系統，其中所述泵浦源包括：

一或多個激光器。

13.根據權利要求12所述的系統，其中所述泵浦源包括：

紅外線激光器、可見光激光器或紫外線激光器中的至少一者。

14.根據權利要求1所述的系統，其中所述反射器元件經配置以收集來自所述等離子體的寬帶UV、VUV或DUV光中的至少一者。

15.根據權利要求1所述的系統，其中所述氣體包括：

氬氣、氪氣、氙氣、氖氣、氮氣或氧氣中的至少一者。

16.根據權利要求1所述的系統，其中所述可旋轉氣體圍阻結構包括：

等離子體燈泡、等離子體單元或等離子體室中的至少一者。

17.根據權利要求1所述的系統，其中所述可旋轉氣體圍阻結構包括：

等離子體室，其中所述反射器元件經配置為所述等離子體室的壁。

18.根據權利要求1所述的系統，其進一步包括：一或多個額外集光光學器件，所述一或多個額外集光光學器件經配置以將從所述等離子體輸出的寬帶光引導到一或多個下游應用。

19.根據權利要求18所述的系統，其中所述一或多個下游應用包括檢驗或計量中的至少一者。