[發(fā)明專利]觸發(fā)式采樣系統(tǒng)和方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202080059008.9 | 申請日: | 2020-08-25 |
| 公開(公告)號: | CN114270165A | 公開(公告)日: | 2022-04-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | D·羅迪耶;B·諾倫伯格;I·桑切斯 | 申請(專利權(quán))人: | 粒子監(jiān)測系統(tǒng)有限公司 |
| 主分類號: | G01N1/22 | 分類號: | G01N1/22;G01N1/02;G01N15/00 |
| 代理公司: | 北京匯知杰知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11587 | 代理人: | 楊巍;柴春玲 |
| 地址: | 美國科*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 觸發(fā) 采樣系統(tǒng) 方法 | ||
本文描述了監(jiān)測系統(tǒng)和方法,包括用于空氣中分子污染物(AMC)的監(jiān)測系統(tǒng)和方法,其將采樣器(例如沖擊采樣器或吸附管)與實(shí)時(shí)分析儀(例如離子遷移譜儀(IMS)或光學(xué)粒子計(jì)數(shù)器)結(jié)合起來。所述系統(tǒng)可以允許選擇性采樣,其中所述采樣器僅在實(shí)時(shí)分析儀檢測到滿足特定標(biāo)準(zhǔn)(例如分析物的組成和/或濃度)的分析物(例如分子污染物或顆粒)期間暴露于目標(biāo)流體。本發(fā)明還包括具有采樣器儲存器的沖擊采樣器系統(tǒng),所述采樣器儲存器包含抗陰離子浸出材料,所述抗陰離子浸出材料的特征在于在去離子水存在下的低陰離子浸出率。
本申請要求于2019年8月26日提交的美國臨時(shí)專利申請No.62/891,819的優(yōu)先權(quán)權(quán)益,其內(nèi)容通過引用整體并入本文。
背景技術(shù)
包括起泡器和吸附管的沖擊采樣器廣泛用于包括半導(dǎo)體制造在內(nèi)的各個(gè)行業(yè),用于監(jiān)測空氣中的分子污染物。這些裝置通過使流體(例如空氣、工藝氣體或氣體混合物)流過吸收性材料來工作,在沖擊采樣器或起泡器的情況下,所述吸附性材料為液體,或在吸附管的情況下,所述吸附性材料為粒狀固體。將所述吸附性材料暴露于所述流體中一段設(shè)定的時(shí)間,然后取出用于外部測試(例如質(zhì)譜或氣相色譜)以鑒定和/或量化存在于所述流體中并轉(zhuǎn)移至吸附性材料中的污染物。
雖然使用沖擊采樣器和吸收管既經(jīng)濟(jì)又準(zhǔn)確,但它們?nèi)狈ο蛑圃爝^程提供任何實(shí)時(shí)反饋的能力。根據(jù)更換和分析沖擊采樣器之間的時(shí)間,可能要幾天后才能檢測到污染物。一旦進(jìn)行分析,沖擊采樣器也無法提供精確的時(shí)間分量,因?yàn)闆]有方法可以確定污染物是何時(shí)被沖擊采樣器捕獲的,因此它們只能提供在相對較長的時(shí)間段內(nèi)的某個(gè)時(shí)間點(diǎn)發(fā)生了污染。這意味著大量制成品可能已經(jīng)暴露于污染物,且必須進(jìn)行測試或從生產(chǎn)中去除。
從上述可以看出,在本領(lǐng)域中仍然需要能夠在捕獲污染物的時(shí)間方面提供更多間隔的空氣中的分子污染物的采樣系統(tǒng)和方法。這些方法將有利于制造業(yè),因?yàn)樗鼈兛梢愿行У刈R別可能已經(jīng)暴露于污染物的產(chǎn)品或物品,同時(shí)允許使用沖擊采樣器、起泡器和吸附管進(jìn)行精確測試。
發(fā)明內(nèi)容
本文描述了監(jiān)測系統(tǒng)和方法,所述監(jiān)測系統(tǒng)和方法包括例如用于空氣中的分子污染物(AMC)和/或生物顆粒的檢測和表征,其將采樣器(例如沖擊采樣器、撞擊采樣器、過濾器或吸附管)與實(shí)時(shí)分析儀結(jié)合起來,例如,用于觸發(fā)和/或控制,使得采樣器能在分析物(如污染物)更可能存在和/或存在于某些閾值水平和/或滿足某些檢測標(biāo)準(zhǔn)的期間對流體進(jìn)行采樣。所述系統(tǒng)可以允許選擇性和/或有針對性的采樣,其中采樣器在實(shí)時(shí)分析儀檢測到滿足特定標(biāo)準(zhǔn)(例如分析物的組成、每單位時(shí)間內(nèi)的計(jì)數(shù)和/或濃度)的分析物(例如分子污染物)期間暴露于目標(biāo)流體。本發(fā)明還包括具有采樣器儲存器的沖擊采樣器系統(tǒng),所述采樣器儲存器包含抗陰離子浸出材料,所述抗陰離子浸出材料的特征在于在去離子水存在下的低陰離子浸出率。
在一方面,提供了一種監(jiān)測系統(tǒng),其包括:(i)實(shí)時(shí)分析儀,用于監(jiān)測流體(例如來自監(jiān)測中的樣品、工藝或環(huán)境的氣體或液體)中的一種或多種分析物;(ii)采樣器,包括沖擊采樣器、撞擊采樣器、過濾器或吸附管;(iii)流動系統(tǒng),其可操作地連接到所述實(shí)時(shí)分析儀和所述采樣器;其中所述流動系統(tǒng)配置為使得在通過所述實(shí)時(shí)分析儀檢測到所述流體中的所述一種或多種分析物之時(shí),例如滿足一種或多種實(shí)時(shí)分析儀分析物檢測標(biāo)準(zhǔn)的檢測,所述流動系統(tǒng)將流體從監(jiān)測中的樣品、工藝或環(huán)境引導(dǎo)至所述采樣器以進(jìn)行采樣,例如,其中所述實(shí)時(shí)分析儀分析物檢測標(biāo)準(zhǔn)可以任選地包括以下一種或多種:分析物的閾值濃度、分析物的閾值量、分析物的檢出閾值頻率、每單位時(shí)間內(nèi)分析物計(jì)數(shù)的閾值數(shù)以及分析物的組成,并且其中任選地,將流體在選定的持續(xù)時(shí)間內(nèi)和/或以選定的速率引導(dǎo)至所述采樣器,以便允許對由所述采樣器采樣的分析物進(jìn)行后續(xù)分析。
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