[發明專利]曝光頭和圖像形成裝置在審
| 申請號: | 202080058392.0 | 申請日: | 2020-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN114270277A | 公開(公告)日: | 2022-04-01 |
| 發明(設計)人: | 小山勇人;中西宏一郎;古田泰友 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/04 | 分類號: | G03G15/04 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 汪晶晶 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 圖像 形成 裝置 | ||
曝光頭106設置有多個發光元件陣列芯片400。從作為多個發光元件陣列芯片中的每一個的兩個長邊之一的第一邊402B到密封區域409的平行于且靠近第一邊的一個長邊409B的第一距離(wa2?wb2)比從作為兩個長邊中的另一邊的第二邊402T到密封區域的平行于且靠近第二邊的另一個長邊409T的第二距離(wa3?wb3)短。從第一邊到發光區域404的平行于且靠近第一邊的一個長邊404B的第三距離wa2比從第二邊到發光區域的平行于且靠近第二邊的另一個長邊404T的第四距離wa3短。
技術領域
本發明涉及曝光頭和圖像形成裝置。
背景技術
一種電子照相圖像形成裝置包括被驅動旋轉的感光構件、被配置為用光對感光構件進行曝光以形成靜電潛像的曝光部分、被配置為通過使用顯影劑對形成在感光構件上的靜電潛像進行顯影的顯影部分,以及被配置為將用顯影劑顯影的圖像轉印到片材上的轉印部分。在這種情況下,作為曝光部分,激光掃描儀、曝光頭等是已知的。激光掃描儀是指被配置為通過偏轉構件使從光源發射的光偏轉,使得從光源發射的光被掃描到感光構件的表面上的曝光設備。同時,曝光頭是指不包括偏轉構件并且其中多個光源在與感光構件的表面移動的方向正交的方向上并排布置的曝光設備。曝光頭包括被配置為將從多個發光元件發射的光成像到感光構件上的透鏡陣列。
在專利文獻1描述的曝光頭中,為了抑制作為光源的多個有機EL由于水分和氧氣而劣化,通過利用金屬接合將有機EL電路板和驅動IC板彼此貼合而密封有機EL。另外,在專利文獻1描述的曝光頭中,多個有機EL電路板以交錯的方式布置。這種布置的原因是因為與包括一個長有機EL電路板的曝光頭相比,可以降低制造成本。
[引文列表]
[專利文獻]
PTL 1:日本專利申請公開No.2015-162428
發明內容
[技術問題]
在其中各自由多個發光元件形成的發光元件陣列芯片以交錯方式布置在電路板上的曝光頭中,從光利用效率的觀點來看,優選地減小各個發光元件陣列芯片的發光區域與透鏡陣列的中心之間的距離。但是,為了抑制水分和氧氣從發光元件陣列芯片的端部進入,需要用于密封發光區域的密封材料,因此發光區域與透鏡陣列的中心之間的距離增加,這導致了光利用效率降低的問題。
鑒于上述情況,本發明的一個目的在于抑制曝光頭的光利用效率的降低。
[問題的解決方案]
為了解決上述問題,根據本發明的一個實施例,提供了一種曝光頭,包括:多個發光元件陣列芯片;發光區域,設置在多個發光元件陣列芯片的每一個發光元件陣列芯片中,并且包括多個發光部分;密封材料,用于覆蓋發光區域的發光面和發光區域的側面;以及透鏡陣列,被配置為會聚從發光區域發射的光,其中,如從發光面側觀察到的,施加有密封材料的密封區域包括發光區域,其中多個發光元件陣列芯片中的每一個發光元件陣列芯片具有矩形形狀,其中從作為多個發光元件陣列芯片中的每一個發光元件陣列芯片的兩個長邊之一的第一邊到密封區域的平行于且靠近第一邊的一個長邊的第一距離比從作為多個發光元件陣列芯片中的每一個發光元件陣列芯片的兩個長邊中的另一個的第二邊到密封區域的平行于且靠近第二邊的另一個長邊的第二距離短,并且其中從第一邊到發光區域的平行于且靠近第一邊的一個長邊的第三距離比從第二邊到發光區域的平行于且靠近第二邊的另一個長邊的第四距離短。
[發明的有益效果]
根據本發明,可以抑制曝光頭的光利用效率的降低。
附圖說明
圖1是圖像形成裝置的截面圖。
圖2A是用于例示曝光頭相對于感光鼓的布置的視圖。
圖2B是用于例示從發光元件組發射的光束通過棒狀透鏡陣列會聚到感光鼓上的視圖。
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