[發明專利]曝光頭和圖像形成裝置在審
| 申請號: | 202080058392.0 | 申請日: | 2020-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN114270277A | 公開(公告)日: | 2022-04-01 |
| 發明(設計)人: | 小山勇人;中西宏一郎;古田泰友 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/04 | 分類號: | G03G15/04 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 汪晶晶 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 圖像 形成 裝置 | ||
1.一種曝光頭,包括:
多個發光元件陣列芯片;
發光區域,設置在所述多個發光元件陣列芯片的每一個發光元件陣列芯片中,并且包括多個發光部分;
密封材料,用于覆蓋發光區域的發光面和發光區域的側面;以及
透鏡陣列,被配置為會聚從發光區域發射的光,
其中,如從發光面側觀察到的,施加有密封材料的密封區域包括發光區域,
其中,所述多個發光元件陣列芯片中的每一個發光元件陣列芯片具有矩形形狀,
其中,從作為所述多個發光元件陣列芯片中的每一個發光元件陣列芯片的兩個長邊之一的第一邊到密封區域的平行于且靠近第一邊的一個長邊的第一距離比從作為所述多個發光元件陣列芯片中的每一個發光元件陣列芯片的兩個長邊中的另一個長邊的第二邊到密封區域的平行于且靠近第二邊的另一個長邊的第二距離短,以及
其中,從第一邊到發光區域的平行于且靠近第一邊的一個長邊的第三距離比從第二邊到發光區域的平行于且靠近第二邊的另一個長邊的第四距離短。
2.根據權利要求1所述的曝光頭,
其中,第一距離比從作為所述多個發光元件陣列芯片中的每一個發光元件陣列芯片的兩個短邊之一的第三邊到密封區域的平行于且靠近第三邊的一個短邊的第五距離短,以及
其中,第一距離比從作為所述多個發光元件陣列芯片中的每一個發光元件陣列芯片的兩個短邊中的另一個短邊的第四邊到密封區域的平行于且靠近第四邊的另一個短邊的第六距離短。
3.根據權利要求2所述的曝光頭,
其中,第三距離比從第三邊到發光區域的平行于且靠近第三邊的一個短邊的第七距離短,以及
其中,第三距離比從第四邊到發光區域的平行于且靠近第四邊的另一個短邊的第八距離短。
4.根據權利要求1所述的曝光頭,
其中,第三距離比從作為所述多個發光元件陣列芯片中的每一個發光元件陣列芯片的兩個短邊之一的第三邊到發光區域的平行于且靠近第三邊的一個短邊的第七距離短,以及
其中,第三距離比從作為所述多個發光元件陣列芯片中的每一個發光元件陣列芯片的兩個短邊中的另一個短邊的第四邊到發光區域的平行于且靠近第四邊的另一個短邊的第八距離短。
5.根據權利要求1至4中的任一項所述的曝光頭,其中,發光區域的所述多個發光部分中的每一個發光部分是頂部發射型LED。
6.根據權利要求1至5中的任一項所述的曝光頭,其中,所述多個發光元件陣列芯片在曝光頭的縱向方向上以交錯的方式布置。
7.根據權利要求6所述的曝光頭,其中,所述多個發光元件陣列芯片被布置成使得相鄰的發光元件陣列芯片的第一邊部分地彼此相對。
8.根據權利要求1至7中的任一項所述的曝光頭,其中,所述多個發光元件陣列芯片的第一邊布置在一條直線上。
9.一種成像裝置,包括:
感光鼓;
帶電器,被配置為使感光鼓的表面均勻帶電;
如權利要求1至8中的任一項所述的曝光頭,所述曝光頭被配置為根據圖像信號用光對感光鼓的表面進行曝光,以形成靜電潛像;
顯影設備,被配置為利用調色劑對靜電潛像進行顯影,以形成調色劑圖像;
轉印設備,被配置為將調色劑圖像轉印到記錄介質上;以及
定影設備,被配置為對調色劑圖像施加熱和壓力以將調色劑圖像定影到記錄介質。
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