[發明專利]光學膜、濺射靶以及光學膜的成膜方法在審
| 申請號： | 202080056223.3 | 申請日： | 2020-06-24 |
| 公開（公告）號： | CN114207180A | 公開（公告）日： | 2022-03-18 |
| 發明（設計）人： | 大上秀晴 | 申請（專利權）人： | 住友金屬礦山株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C23C14/54;C23C14/08;G02B1/10 |
| 代理公司： | 隆天知識產權代理有限公司 72003 | 代理人： | 陳曦;向勇 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 濺射 以及 方法 | ||
1.一種光學膜，其為在可見光波長區域具有透過性、在近紅外波長區域具有吸收性且具有電波透過性的光學膜，其特征在于，
所述光學膜含有銫、鎢以及氧，按每50nm劃分300nm～1700nm的波長區域而確定的各波長即300nm、350nm、400nm、450nm、……1700nm的折射率n和消光系數k分別設定為表7的數值范圍內，
表7
波長(nm) 折射率 消光系數 300 2.2～3.2 0.6～1.6 350 2.1～3.1 0.0～0.8 400 1.8～2.8 0.0～0.6 450 1.6～2.6 0.0～0.6 500 1.4～2.4 0.0～0.6 550 1.1～2.1 0.0～0.6 600 0.8～1.8 0.0～0.7 650 0.6～1.6 0.1～1.1 700 0.7～1.7 0.5～1.5 750 0.9～1.9 0.6～1.6 800 1.1～2.1 0.5～1.5 850 1.0～2.0 0.4～1.4 900 0.8～1.8 0.4～1.4 950 0.6～1.6 0.4～1.4 1000 0.4～1.4 0.6～1.6 1050 0.3～1.3 0.8～1.8 1100 0.3～1.3 1.1～2.1 1150 0.2～1.2 1.3～2.3 1200 0.3～1.3 1.4～2.4 1250 0.3～1.3 1.6～2.6 1300 0.3～1.3 1.8～2.8 1350 0.3～1.3 1.9～2.9 1400 0.3～1.3 2.1～3.1 1450 0.3～1.3 2.2～3.2 1500 0.3～1.3 2.4～3.4 1550 0.4～1.4 2.5～3.5 1600 0.4～1.4 2.6～3.6 1650 0.4～1.4 2.8～3.8 1700 0.5～1.5 2.9～3.9
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