[發(fā)明專利]切削刀具、數(shù)據(jù)收集系統(tǒng)以及切削刀具用刀架在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202080055231.6 | 申請日: | 2020-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN114173966A | 公開(公告)日: | 2022-03-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 橋本重孝 | 申請(專利權(quán))人: | 京瓷株式會(huì)社 |
| 主分類號: | B23B27/00 | 分類號: | B23B27/00;B23B29/12;B23Q17/09 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 劉影娜 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 切削 刀具 數(shù)據(jù) 收集 系統(tǒng) 以及 刀架 | ||
1.一種切削刀具,其中,
所述切削刀具具有:
基體,其具有沿第一方向延伸的刀柄部、位于所述刀柄部的一端的固定部、以及在所述刀柄部的外表面開口的凹部;
刀片,其固定于所述固定部,且具有切削刃;
傳感器,其位于所述凹部內(nèi);以及
蓋,其堵塞所述凹部,
所述切削刃位于比所述刀柄部的外周面中的面向與所述第一方向正交的第二方向上的一側(cè)的第一區(qū)域靠所述第二方向上的所述一側(cè)的位置,
所述蓋整體位于比所述切削刃靠所述第二方向上的另一側(cè)的位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的切削刀具,其中,
所述刀片還具有:
前刀面,其在所述第一方向上進(jìn)行觀察時(shí)面向與所述第一方向和所述第二方向這雙方正交的第三方向;以及
后刀面,其在所述第一方向上進(jìn)行觀察時(shí)相對于所述第三方向以規(guī)定的后角傾斜且面向所述第二方向上的所述一側(cè),并經(jīng)由所述切削刃與所述前刀面交叉。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的切削刀具,其中,
所述凹部在所述第一區(qū)域開口并被所述蓋堵塞。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的切削刀具,其中,
所述蓋整體位于比所述基體的外表面靠所述基體的內(nèi)側(cè)的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的切削刀具,其中,
所述凹部通過從所述第一區(qū)域到該凹部的深度方向上的第一中途位置為止的開口與位于比所述第一中途位置靠所述凹部的底側(cè)的位置的開口相比而至少向一長度方向上的兩側(cè)擴(kuò)徑,從而具有第一底面位于所述第一中途位置的第一凹部,
所述蓋的內(nèi)表面?zhèn)鹊闹辽僖徊糠质杖萦谒龅谝话疾浚瑥亩錾w被所述第一凹部的內(nèi)周面以及所述第一底面定位。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的切削刀具,其中,
所述第一凹部的深度大于所述蓋的厚度。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的切削刀具,其中,
所述切削刀具還具有夾設(shè)在所述蓋與所述基體的所述凹部內(nèi)的表面之間的接合材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的切削刀具,其中,
所述凹部通過從所述第一底面到該凹部的深度方向上的第二中途位置為止的開口與位于比所述第二中途位置靠所述凹部的底側(cè)的位置的開口相比而至少向所述一長度方向上的兩側(cè)擴(kuò)徑,從而具有第二底面位于所述第二中途位置的第二凹部,
在所述蓋與所述第二底面之間構(gòu)成有間隙。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的切削刀具,其中,
所述蓋與所述第一底面至少部分抵接。
10.根據(jù)權(quán)利要求7~9中任一項(xiàng)所述的切削刀具,其中,
所述接合材料在所述凹部的開口的整周的范圍內(nèi)夾設(shè)在所述蓋與所述基體的所述凹部內(nèi)的表面之間。
11.根據(jù)權(quán)利要求7~10中任一項(xiàng)所述的切削刀具,其中,
所述接合材料與所述蓋的內(nèi)表面接觸。
12.根據(jù)權(quán)利要求7~11中任一項(xiàng)所述的切削刀具,其中,
所述接合材料與所述蓋的側(cè)面接觸。
13.根據(jù)權(quán)利要求7~12中任一項(xiàng)所述的切削刀具,其中,
所述接合材料全部位于所述凹部內(nèi)。
14.根據(jù)權(quán)利要求7~13中任一項(xiàng)所述的切削刀具,其中,
所述接合材料全部位于比所述蓋的外表面靠所述蓋的內(nèi)表面?zhèn)鹊奈恢谩?/p>
15.根據(jù)權(quán)利要求5~14中任一項(xiàng)所述的切削刀具,其中,
所述蓋的側(cè)面的表面粗糙度大于所述蓋的內(nèi)表面的表面粗糙度。
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