[發明專利]磁記錄介質基板用玻璃、磁記錄介質基板、磁記錄介質、磁記錄再生裝置用玻璃間隔物和磁記錄再生裝置在審
| 申請號: | 202080052827.0 | 申請日: | 2020-07-22 |
| 公開(公告)號: | CN114144384A | 公開(公告)日: | 2022-03-04 |
| 發明(設計)人: | 佐藤浩一;橋本和明 | 申請(專利權)人: | HOYA株式會社 |
| 主分類號: | C03C3/085 | 分類號: | C03C3/085;C03C3/087;C03C3/091;C03C3/093;C03C3/095;G11B5/73;G11B5/84;G11B5/85;G11B5/851;G11B5/858;G11B17/038;G11B23/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 王博;張志楠 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 記錄 介質 基板用 玻璃 再生 裝置 間隔 | ||
1.一種磁記錄介質基板用玻璃,其為
SiO2含量為54摩爾%以上62摩爾%以下、
MgO含量為15摩爾%以上28摩爾%以下、
Li2O含量為0.2摩爾%以上、以及
Na2O含量為5摩爾%以下的非晶態玻璃。
2.如權利要求1所述的磁記錄介質基板用玻璃,其中,SiO2與MgO的總含量相對于Li2O含量的摩爾比、也即(SiO2+MgO)/Li2O為13以上。
3.如權利要求1或2所述的磁記錄介質基板用玻璃,其中,SiO2、MgO、Li2O、Al2O3和CaO的總含量、也即SiO2+MgO+Li2O+Al2O3+CaO為93摩爾%以上。
4.如權利要求1~3中任一項所述的磁記錄介質基板用玻璃,其中,Al2O3與CaO的總含量相對于MgO含量的摩爾比、也即(Al2O3+CaO)/MgO為0.55以上。
5.如權利要求1~4中任一項所述的磁記錄介質基板用玻璃,其中,MgO含量相對于CaO含量的摩爾比、也即MgO/CaO為6以上。
6.一種磁記錄介質基板,其由權利要求1~5中任一項所述的磁記錄介質基板用玻璃構成。
7.一種磁記錄介質,其具有權利要求6所述的磁記錄介質基板和磁記錄層。
8.一種磁記錄再生裝置用玻璃間隔物,其中,所述玻璃間隔物包含
SiO2含量為54摩爾%以上62摩爾%以下、
MgO含量為15摩爾%以上28摩爾%以下、
Li2O含量為0.2摩爾%以上、以及
Na2O含量為5摩爾%以下的非晶態玻璃。
9.一種磁記錄再生裝置,其包含權利要求7所述的磁記錄介質和權利要求8所述的磁記錄再生裝置用玻璃間隔物中的至少一者。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于HOYA株式會社,未經HOYA株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202080052827.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





