[發(fā)明專利]在金屬基材或陶瓷基材上的玻璃或玻璃陶瓷包覆層中的包括基材表面的缺陷部位的修復在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202080049686.7 | 申請日： | 2020-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN114096503A | 公開（公告）日： | 2022-02-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | O·克納夫 | 申請（專利權(quán)）人： | 奧梅拉斯表面處理和金屬加工有限公司 |
| 主分類號： | C04B41/86 | 分類號： | C04B41/86;C23D13/02;C23D5/08 |
| 代理公司： | 中國貿(mào)促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人： | 殷駿 |
| 地址： | 德國勞特-*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 金屬 基材 陶瓷 玻璃 覆層 中的 包括 表面 缺陷 部位 修復 | ||
本發(fā)明涉及一種用于修復玻璃或玻璃陶瓷包覆層中的至少一個缺陷部位的方法。在此，將涂層材料通過涂覆方法施加到所述至少一個缺陷部位上、去除突出的過量的涂層材料、干燥所施加的涂層材料，并且隨后在熱量輸入的情況下焙燒所施加的涂層材料。本發(fā)明還涉及一種用于修復缺陷部位的激光修復系統(tǒng)，其中根據(jù)本發(fā)明的激光修復系統(tǒng)包括至少一個可更換的樞轉(zhuǎn)裝置、可更換的熱輻射裝置以及能量供給單元。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及在玻璃或玻璃陶瓷包覆層中的至少一個缺陷部位的修復，其中玻璃或玻璃陶瓷包覆層設(shè)置在金屬基材或陶瓷基材上，以及涉及在金屬基材或陶瓷基材表面上的缺陷部位的修復。在此，本發(fā)明包括一種用于處理在搪瓷物件中的缺陷部位的修復方法以及激光修復系統(tǒng)。
背景技術(shù)
由玻璃樣無機材料(也稱作玻璃陶瓷材料)與金屬基材構(gòu)成的復合材料被稱作為搪瓷或瓷釉。玻璃陶瓷材料通過完全地或部分地熔化主要是氧化的原材料和與金屬基材的化合物而產(chǎn)生，并形成玻璃陶瓷的包覆層，所述包覆層也稱作為搪瓷層。將這樣制備的無機制劑與添加劑一起以一層或多層作為包覆層涂覆到金屬基材上并且在高于800℃的溫度下使之熔化。
在此，搪瓷的特性是與相應使用的基材和相應的各自使用目的協(xié)調(diào)一致的。原則上，搪瓷具有高耐腐蝕性、高耐磨性、化學中性、衛(wèi)生以及生物和催化惰性行為、絕緣性能以及光滑的表面。因此，搪瓷用作基材的保護包覆層。此外，搪瓷易清潔、耐劃傷且形狀穩(wěn)定。因此，搪瓷物件(如搪瓷金屬板材)有利地用作房間的飾面或用作隧道或地鐵中的鑲板。例如，大型容器、儲存器、管道、銘牌、工業(yè)部件、日用品、蒸煮器和儀器均被涂以瓷釉。下文中，具有玻璃陶瓷包覆層或搪瓷層的金屬基材或陶瓷基材被稱為搪瓷物件。
下文中描述一種借助濕磨制備搪瓷基材的典型方法。
在制備搪瓷時，精細地研磨底釉和/或面釉的成分，并且隨后在立式或連續(xù)式加熱爐中使之均勻地熔化。干式或者濕式(例如在水中)地進行淬火。通過淬火產(chǎn)生所謂的釉料(Fritte)，其也被稱為玻璃料(Glasfritte)并且具有玻璃樣特性。
將具有一種或多種釉料、構(gòu)造成著色氧化物的著色體以及其它添加物如粘土、石英和/或調(diào)節(jié)劑的搪瓷配方隨后在添加溶劑的情況下在球磨機或行星式磨機中精細地研磨成粉末。在濕磨時，大多使用水或有機溶劑作為溶劑。在濕磨時獲得的釉料粉末在溶劑中的懸浮液作為搪瓷釉漿存在并且在下文中也被稱為釉漿或涂層材料。所述懸浮液分別根據(jù)在其組成中所含有的釉料、著色氧化物和添加劑可具有不同的顏色、光澤度和特性。
搪瓷釉漿可以具有不同的粘度并且可以相應地構(gòu)造成液態(tài)的或糊狀的(糊狀搪瓷釉漿)。分別根據(jù)組分涉及底釉漿或面釉漿。可替代地，通過干磨獲得的干燥的釉料粉末也可作為粉末釉料被用于進一步制備。
在通過各種步驟如機械和/或化學清潔方法和/或干燥和/或除油污和/或預熱進行可選的基材預處理之后，隨后通過涂覆方法盡可能均勻地將底釉漿涂覆到基材上。在緊接著將底釉漿焙燒成至少一個底釉層之前，該底釉漿必須完全干燥。分別根據(jù)基材的材料，在相應合適的溫度下進行焙燒。因此，例如用于鋁基材的溫度低于用于鋼基材的溫度。在此，所述至少一個底釉層熔化成玻璃樣包覆層。將底釉漿通過浸漬或噴涂施加到基材上并且將其在鋼或不銹鋼基材的情況下在大約800℃至900℃下或者在鋁基材的情況下在大約450℃至550℃下焙燒成底釉層，取決于方法其具有大約80μm至250μm的厚度。
隨后，通過涂覆方法盡可能均勻地施加面釉漿以及隨后完全干燥并且接下來將面釉漿焙燒成至少一個大約100μm厚度的面釉層。絕大多數(shù)情況下，多個面釉層覆蓋位于其下面的基材或位于其下面的底釉層。在一個實施形式中，將面釉漿通過浸漬或噴涂施加到底釉上并且在800℃至850℃下焙燒。面釉層的總層厚在0至1mm的范圍內(nèi)、優(yōu)選在0.05mm至0.5mm的范圍內(nèi)。
在制備搪瓷物件的過程中，但亦或在安裝時或由于在使用它們時的錯誤，經(jīng)常會在搪瓷層和/或位于其下面的基材中形成缺陷。
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