[發明專利]在金屬基材或陶瓷基材上的玻璃或玻璃陶瓷包覆層中的包括基材表面的缺陷部位的修復

在審

• 申請號: 202080049686.7
• 申請日: 2020-06-29
• 公開（公告）號: CN114096503A
• 公開（公告）日: 2022-02-25
• 發明（設計）人: O·克納夫
• 申請（專利權）人: 奧梅拉斯表面處理和金屬加工有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86;C23D13/02;C23D5/08
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 殷駿

1.用于修復玻璃或玻璃陶瓷包覆層中的至少一個缺陷部位的方法，以及用于修復在金屬基材或陶瓷基材表面上的缺陷部位的方法，其中玻璃或玻璃陶瓷包覆層設置在金屬或陶瓷基材上，

其中該方法包括以下方法步驟：

·將釉料粉末或搪瓷釉漿作為涂層材料通過涂覆方法施加到所述至少一個缺陷部位上，

·去除突出的過量的涂層材料，

·干燥所施加的涂層材料，

·在熱量輸入的情況下焙燒所施加的涂層材料，包括以下步驟：

-通過激光照射進行第一聚焦的高能熱輸入，伴隨與之相關的照射斑的熔化，

-進行第二散焦的低能熱輸入，伴隨受控制的照射斑的連續冷卻，其中所述第二散焦的低能熱輸入通過激光照射或感應地進行。

2.根據權利要求1或2所述的方法，其中該方法具有至少一個流程，其中根據缺陷部位和處理成效可以多次相繼地重復使用各個方法步驟。

3.根據權利要求1至3中任一項所述的方法，另外包括在施加涂層材料之前探測至少一個缺陷部位和/或在焙燒所施加的涂層材料之后檢驗所處理的至少一個缺陷部位，其特征在于，借助光學檢查和/或電學檢查進行所述探測和/或檢查，其中

·所述光學檢查包括視覺檢查，并且

·所述電學檢查包括根據DIN EN 14430的高壓檢查或根據DIN EN ISO 8289的低壓檢查。

4.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其還包括機械地和/或化學地和/或熱地預處理所述至少一個缺陷部位。

5.根據權利要求1至5中任一項所述的方法，其特征在于，通過脈沖式固體激光器在780nm至3μm的近紅外范圍內進行所述激光照射，其中所述固體激光器構造成Nd:YAG激光器，其脈沖時長為9ns至250ns，并且激光功率為5W至200W。

6.根據權利要求1至6中任一項所述的方法，其特征在于，通過激光修復系統進行所述熱量輸入，其中在將涂層材料施加到玻璃或玻璃陶瓷包覆層上之前安裝該激光修復系統，并且在焙燒玻璃或玻璃陶瓷包覆層之后將其卸下。

7.根據權利要求1至7中任一項所述的方法，其特征在于，所述涂層材料具有與具有所述至少一個缺陷部位的玻璃或玻璃陶瓷包覆層相同的特性，并且形成搪瓷釉漿或具有粒度為0.35至160μm的釉料粉末。

8.根據權利要求1至8中任一項所述的方法，其特征在于，所述涂覆方法選自噴涂方法、涂抹方法、刮涂方法、澆鑄方法、流涂方法、浸漬方法、絲網印刷方法和/或噴霧方法。

9.用于修復根據權利要求1至8中任一項所述的缺陷部位的激光修復系統，其包括至少一個可更換的樞轉裝置、可更換的熱輻射裝置以及能量供給單元，其特征在于，

·所述激光修復系統可拆卸地設置在玻璃上或玻璃陶瓷包覆層上，·所述熱輻射裝置可移動地且可拆卸地構造設置在所述樞轉裝置上，

·所述熱輻射裝置包括至少一個可更換的激光加工頭和至少一個可更換的激光器，

·所述樞轉裝置具有用于定位熱輻射裝置的至少兩個位置，其中第一位置相應于靜止位置且第二位置相應于缺陷部位上方的加工位置。

10.根據權利要求9所述的激光修復系統，其特征在于，所述樞轉裝置具有至少兩個樞轉臂，在所述樞轉臂上設置有平臺，其中熱輻射裝置安裝在該平臺上，并且該平臺被構造成通過樞轉臂沿水平維度在xy方向上相對于搪瓷物件在所述第一與第二位置之間可移動。

11.根據權利要求9或10所述的激光修復系統，其特征在于，該激光修復系統通過至少一個安裝在樞轉裝置的下側的緊固件可拆卸地設置在玻璃或玻璃陶瓷包覆層上，其中樞轉裝置的下側指向玻璃或玻璃陶瓷包覆層。

12.根據權利要求9至11中任一項所述的激光修復系統，其還包括涂覆系統和/或預處理裝置和/或探測系統。