[發(fā)明專利]消毒單元、包括這種消毒單元的飲料制備機器和實現(xiàn)這種飲料制備機器的飲料制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202080049320.X
• 申請日: 2020-07-20
• 公開（公告）號: CN114144204A
• 公開（公告）日: 2022-03-04
• 發(fā)明（設計）人: C·阿本德;J-M·弗里克;B·昆茲勒
• 申請（專利權(quán)）人: 雀巢產(chǎn)品有限公司
• 主分類號: A61L2/08
• 分類號: A61L2/08;A61L2/10;A47J31/46
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 秘鳳華;吳鵬

1.消毒單元(1)，所述消毒單元用于對待遞送到飲料制備單元(102)以便制備飲料的液體消毒，所述消毒單元(1)包括被構(gòu)造成接收一定量的液體的輻照室(2)，所述輻照室(2)包括：i)液體入口(10)，所述液體入口用于將所述液體引入所述輻照室(2)；以及ii)液體出口(12)，所述液體出口用于將所引入的液體從所述輻照室(2)中排放出去，所述消毒單元(1)還包括輻照裝置(4)，所述輻照裝置被構(gòu)造成將消毒輻照發(fā)射到所述輻照室(2)中以便對所述輻照室(2)中的所述液體消毒，

其中，所述液體出口(12)包括限流器(12.1)，所述限流器被構(gòu)造成當所述限流器(12.1)兩端的壓力差低于預定閾值時將經(jīng)由所述液體出口(12)的液體流限制為受限流速，并且當所述限流器(12.1)兩端的所述壓力差等于或大于所述預定閾值時允許經(jīng)由所述液體出口(12)的液體流具有高于所述受限流速的排放流速。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的消毒單元(1)，其中，所述限流器(12.1)被構(gòu)造成使得所述受限流速在經(jīng)由所述液體入口(10)的液體流速的0％到80％、優(yōu)選地20％到80％、更優(yōu)選地20％到60％的范圍內(nèi)。

3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的消毒單元(1)，其中，所述限流器(12.1)被構(gòu)造成使得所述排放流速是經(jīng)由所述液體入口(10)的液體流速的約100％。

4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的消毒單元(1)，其中，所述限流器具有在0.28mm²到0.79mm²、優(yōu)選地0.28mm²到0.50mm²、更優(yōu)選地0.35mm²到0.43mm²的范圍內(nèi)、還更優(yōu)選地等于約0.38mm²的橫截面積。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的消毒單元，其中，所述限流器包括單向閥，所述單向閥優(yōu)選地被構(gòu)造成僅在相對于所述輻照室的下游方向上打開。

6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的消毒單元(1)，其中，所述預定閾值在2巴到8巴、優(yōu)選地4巴到5巴的范圍內(nèi)。

7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的消毒單元(1)，其中，所述液體出口(12)位于所述輻照室(2)的最下部區(qū)域(2.1)中，優(yōu)選地靠近或位于所述輻照室(2)的最低位置處。

8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的消毒單元(1)，其中，所述液體入口(10)位于所述輻照室(2)的側(cè)面區(qū)域(2.3)中，優(yōu)選地遠離所述液體出口(12)，更優(yōu)選地與所述液體出口(12)基本上相對，所述液體入口(10)優(yōu)選地朝向所述輻照裝置(4)定向。

9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的消毒單元(1)，所述消毒單元還包括空氣入口(14)，所述空氣入口用于使空氣進入所述輻照室(2)并且經(jīng)由液體出口(12)將所述液體從所述輻照室(2)中排出，所述空氣入口(14)優(yōu)選地位于所述輻照室(2)的最上部區(qū)域(2.2)中，并且更優(yōu)選地靠近或位于所述輻照室(2)的最高位置處。

10.根據(jù)權(quán)利要求10所述的消毒單元(1)，所述消毒單元還包括流體連接到所述空氣入口(14)的單向閥(20)，其中，所述單向閥(20)優(yōu)選地裝配在限定所述輻照室(2)的壁中，所述單向閥(20)優(yōu)選地被布置成靠近或位于所述輻照室(2)處，使得所述單向閥(20)的大部分或所有可潤濕表面部分或完全暴露于所述輻照裝置(40)的輻照。

11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的消毒單元(1)，其中，所述輻照裝置(4)相對于所述輻照室(2)定位成遠離所述液體出口(12)，所述輻照裝置(4)優(yōu)選地定位成與所述液體出口(12)相對，所述輻照裝置(4)優(yōu)選地位于所述輻照室(2)的所述側(cè)面區(qū)域(2.3)中和/或接近所述液體入口(14)。