[發明專利]涂布方法和涂布裝置

有效

• 申請號: 202080047747.6
• 申請日: 2020-06-25
• 公開（公告）號: CN114025885B
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發明（設計）人: 橋本祐作;川北直史;吉原孝介
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: B05B13/02
• 分類號: B05B13/02;B05B14/00;B05B12/02;B05D3/10;C09D7/20;H01L21/67
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種涂布方法，是向基板供給處理液并通過旋涂法來在基板上涂布所述處理液的涂布方法，在所述涂布方法中，

在所述處理液的供給開始的同時或者晚于所述處理液的供給開始地將表面張力比所述處理液的表面張力小的所述處理液的溶劑與所述處理液混合地供給到所述基板，

在停止向所述基板供給所述處理液之前，結束向所述處理液混合所述溶劑。

2.根據權利要求1所述的涂布方法，其特征在于，

在從開始向所述處理液混合所述溶劑起至結束該混合為止的期間，連續地供給所述處理液。

3.根據權利要求1或2所述的涂布方法，其特征在于，

向所述處理液混合所述溶劑的混合時間是所述處理液的供給時間的1/2～2/3。

4.根據權利要求1或2所述的涂布方法，其特征在于，

所述溶劑相對于所述處理液的混合比例為所述處理液的3～50％。

5.根據權利要求1或2所述的涂布方法，其特征在于，

所述處理液是粘度為3cP～100cP的抗蝕液。

6.根據權利要求1或2所述的涂布方法，其特征在于，

所述溶劑是異丙醇或者揮發性比異丙醇的揮發性低的溶劑。

7.根據權利要求1或2所述的涂布方法，其特征在于，

所述溶劑是丙二醇單甲醚醋酸酯或甲基異丁基甲醇。

8.一種涂布方法，是向基板供給處理液并通過旋涂法來在基板上涂布所述處理液的涂布方法，在所述涂布方法中，

在所述處理液的供給開始的同時或者晚于所述處理液的供給開始地將表面張力比所述處理液的表面張力小的所述處理液的溶劑與所述處理液混合地供給到所述基板，

在從向所述處理液混合所述溶劑的期間的中間時間點起至該期間結束為止的期間，降低所述溶劑相對于所述處理液的混合比例。

9.一種涂布裝置，構成為向基板供給處理液并通過旋涂法來在基板上涂布所述處理液，所述涂布裝置具備：

旋轉保持構件，其將所述基板以能夠旋轉的方式保持；

供給噴嘴，其對被所述旋轉保持構件保持的所述基板供給所述處理液；以及

控制部，其控制所述涂布裝置，以在所述處理液的供給開始的同時或者晚于所述處理液的供給開始地將表面張力比所述處理液的表面張力小的所述處理液的溶劑與所述處理液混合地供給到所述基板，

所述控制部構成為：控制所述涂布裝置，以在保持從所述供給噴嘴對所述基板連續地供給所述處理液的狀態下調整所述溶劑相對于所述處理液的混合比例，并且在包括所述處理液的供給停止時的處理液供給的后半時間段不向所述處理液混合所述溶劑。

10.一種涂布裝置，構成為向基板供給處理液并通過旋涂法來在基板上涂布所述處理液，所述涂布裝置具備：

旋轉保持構件，其將所述基板以能夠旋轉的方式保持；

供給噴嘴，其對被所述旋轉保持構件保持的所述基板供給所述處理液；以及

控制部，其控制所述涂布裝置，以在所述處理液的供給開始的同時或者晚于所述處理液的供給開始地將表面張力比所述處理液的表面張力小的所述處理液的溶劑與所述處理液混合地供給到所述基板，

其中，在停止向所述基板供給所述處理液之前，結束向所述處理液混合所述溶劑。