[發明專利]氟氣制造裝置及光散射檢測器

在審

• 申請號: 202080039896.8
• 申請日: 2020-12-03
• 公開（公告）號: CN113906166A
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發明（設計）人: 三神克己;福地陽介;小林浩
• 申請（專利權）人: 昭和電工株式會社
• 主分類號: C25B1/245
• 分類號: C25B1/245;C25B9/00;C25B15/08;G01N15/02
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 張軼楠;段承恩

提供能夠抑制由霧引起的配管、閥的堵塞的氟氣制造裝置。氟氣制造裝置的流路具有經由從流體除去霧的霧除去部而從電解槽的內部向氟氣分選部輸送流體的第1流路和以不經由霧除去部的方式從電解槽的內部向氟氣分選部輸送流體的第2流路，并且具有根據由平均粒徑測定部測定出的霧的平均粒徑來切換流通流體的流路的流路切換部。流路切換部在由平均粒徑測定部測定出的霧的平均粒徑為預先設定的基準值以下的情況下，從電解槽的內部向第1流路輸送流體，在由平均粒徑測定部測定出的霧的平均粒徑比預先設定的基準值大的情況下，從電解槽的內部向第2流路輸送流體。第2流路具有抑制由霧引起的第2流路的堵塞的堵塞抑制機構。

技術領域

本發明涉及氟氣制造裝置及光散射檢測器。

背景技術

氟氣能夠通過對含有氟化氫和金屬氟化物的電解液進行電解來合成(電解合成)。通過電解液的電解，與氟氣一起也產生霧(例如電解液的霧)，因此，在從電解槽送出的氟氣中伴隨有霧。伴隨于氟氣的霧有可能成為粉體而堵塞在氟氣的輸送中使用的配管、閥。因此，有時不得不使制造氟氣的運轉中斷或者停止，成為了通過電解法制造氟氣時的連續運轉的障礙。

為了抑制由霧導致的配管、閥的堵塞，專利文獻1公開了將伴隨有霧的氟氣或者供該氣體通過的配管加熱到電解液的熔點以上的技術。另外，專利文獻2公開了具有氣體擴散部和填充材料容納部的氣體生成裝置，所述氣體擴散部是進行霧的粗處理的空間，所述填充材料容納部容納用于吸附霧的填充材料。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本國專利公報第5584904號

專利文獻2：日本國專利公報第5919824號

發明內容

發明要解決的課題

然而，期望有一種能夠更有效地抑制由霧導致的配管、閥的堵塞的技術。

本發明的課題在于，提供能夠抑制由霧引起的配管、閥的堵塞的氟氣制造裝置。另外，課題還在于，提供能夠在上述氟氣制造裝置中使用的光散射檢測器。

用于解決課題的技術方案

為了解決所述課題，本發明的一方案如以下的[1]～[8]。

[1]一種氟氣制造裝置，對含有氟化氫及金屬氟化物的電解液進行電解來制造氟氣，具備：

電解槽，容納所述電解液，進行所述電解；

平均粒徑測定部，對在所述電解液的電解時在所述電解槽的內部產生的流體中包含的霧的平均粒徑進行測定；

霧除去部，從所述流體除去所述霧；

氟氣分選部，從所述流體分選并取出氟氣；及

流路，從所述電解槽的內部向所述氟氣分選部輸送所述流體，

所述流路具有經由所述霧除去部從所述電解槽的內部向所述氟氣分選部輸送所述流體的第1流路和以不經由所述霧除去部的方式從所述電解槽的內部向所述氟氣分選部輸送所述流體的第2流路，并且具有根據由所述平均粒徑測定部測定出的所述霧的平均粒徑來切換流通所述流體的流路的流路切換部，

所述流路切換部，在由所述平均粒徑測定部測定出的所述霧的平均粒徑為預先設定的基準值以下的情況下，從所述電解槽的內部向所述第1流路輸送所述流體，在由所述平均粒徑測定部測定出的所述霧的平均粒徑比所述預先設定的基準值大的情況下，從所述電解槽的內部向所述第2流路輸送所述流體，

所述第2流路具有抑制由所述霧引起的所述第2流路的堵塞的堵塞抑制機構。

[2]根據[1]所述的氟氣制造裝置，所述平均粒徑測定部對在所述電解槽的陽極產生的流體中包含的霧的平均粒徑進行測定。