[發明專利]氟氣制造裝置及光散射檢測器

在審

• 申請號: 202080039896.8
• 申請日: 2020-12-03
• 公開（公告）號: CN113906166A
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發明（設計）人: 三神克己;福地陽介;小林浩
• 申請（專利權）人: 昭和電工株式會社
• 主分類號: C25B1/245
• 分類號: C25B1/245;C25B9/00;C25B15/08;G01N15/02
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 張軼楠;段承恩

1.一種氟氣制造裝置，對含有氟化氫及金屬氟化物的電解液進行電解來制造氟氣，具備：

電解槽，容納所述電解液，進行所述電解；

平均粒徑測定部，對在所述電解液的電解時在所述電解槽的內部產生的流體中包含的霧的平均粒徑進行測定；

霧除去部，從所述流體除去所述霧；

氟氣分選部，從所述流體分選并取出氟氣；及

流路，從所述電解槽的內部向所述氟氣分選部輸送所述流體，

所述流路具有經由所述霧除去部從所述電解槽的內部向所述氟氣分選部輸送所述流體的第1流路和以不經由所述霧除去部的方式從所述電解槽的內部向所述氟氣分選部輸送所述流體的第2流路，并且具有根據由所述平均粒徑測定部測定出的所述霧的平均粒徑來切換流通所述流體的流路的流路切換部，

所述流路切換部，在由所述平均粒徑測定部測定出的所述霧的平均粒徑為預先設定的基準值以下的情況下，從所述電解槽的內部向所述第1流路輸送所述流體，在由所述平均粒徑測定部測定出的所述霧的平均粒徑比所述預先設定的基準值大的情況下，從所述電解槽的內部向所述第2流路輸送所述流體，

所述第2流路具有抑制由所述霧引起的所述第2流路的堵塞的堵塞抑制機構。

2.根據權利要求1所述的氟氣制造裝置，

所述平均粒徑測定部對在所述電解槽的陽極產生的流體中包含的霧的平均粒徑進行測定。

3.根據權利要求1或2所述的氟氣制造裝置，

所述堵塞抑制機構是管徑比所述第1流路大的配管。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的氟氣制造裝置，

所述堵塞抑制機構是在相對于水平方向傾斜且從上游側朝向下游側下降的方向上延伸的配管。

5.根據權利要求1或2所述的氟氣制造裝置，

所述堵塞抑制機構是設置于所述第2流路的內部且將堆積于所述第2流路的內部的所述霧向上游側或下游側輸送的旋轉螺桿。

6.根據權利要求1或2所述的氟氣制造裝置，

所述堵塞抑制機構是使得用于使在所述第2流路內流動的所述流體的流速上升的氣流流動的氣流產生裝置。

7.根據權利要求1～6中任一項所述的氟氣制造裝置，

所述平均粒徑測定部由光散射檢測器構成，

該光散射檢測器具備：

試料室，容納所述流體；

光源，向所述試料室中的所述流體照射光散射測定用光；

散射光檢測部，檢測所述光散射測定用光因所述霧散射而產生的散射光；及

透明窗，設置于所述試料室并與所述流體接觸，供所述光散射測定用光或所述散射光透射，

所述透明窗由選自金剛石、氟化鈣、氟化鉀、氟化銀、氟化鋇及溴化鉀中的至少一種形成。

8.一種光散射檢測器，在將含有氟化氫及金屬氟化物的電解液在氟氣制造裝置的電解槽的內部進行電解來制造氟氣時，對在所述電解槽的內部產生的流體中包含的霧的平均粒徑進行測定，具備：

試料室，容納所述流體；

光源，向所述試料室中的所述流體照射光散射測定用光；

散射光檢測部，對所述光散射測定用光因所述霧散射而產生的散射光進行檢測；及

透明窗，設置于所述試料室并與所述流體接觸，供所述光散射測定用光或所述散射光透射，

所述透明窗由選自金剛石、氟化鈣、氟化鉀、氟化銀、氟化鋇及溴化鉀中的至少一種形成。