[發明專利]一種在工業生產線中操作質量控制的裝置、對應的方法和計算機程序產品

在審

• 申請號: 202080039227.0
• 申請日: 2020-03-23
• 公開（公告）號: CN114207420A
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發明（設計）人: G·皮塔;V·拉羅薩
• 申請（專利權）人: 都靈設備科技有限責任公司
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223;G01N21/359;G01N35/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 李雪娜;呂傳奇

一種用于在工業生產線（10）上實行質量控制的裝置（20），包括用于測量前述工業生產線（10）的產品樣品（C）的性質的一個或多個裝置（30，40，50），所述一個或多個裝置（30，40，50）供應相應的一個或多個測量信號，所述裝置（20）包括被配置用于處理一個或多個測量信號并且獲得產品樣品（C）的性質的處理模塊，質量控制根據產品樣品（C）的所述性質來實行，用于測量產品樣品（C）的性質的所述一個或多個裝置（30，40，50）包括：x射線熒光裝置（30），其包括x射線源（331），所述x射線源（331）在測量環境中朝向產品樣品（C）發射第一x射線束（XB，XBC），以及粒子檢測器（335），其被配置用于接收由產品樣品（C）散射的第二x射線束（XBR），并且生成在所述相應的一個或多個測量信號的集合內供應的第一接收信號。裝置（20）進一步包括優選地在近紅外（40）中操作的光學光譜學裝置，其包括在近紅外（NIR）中操作的輻射源，該輻射源朝向產品樣品（C）發射第一光學輻射束，以及用于接收由產品樣品（C）散射的第二光學輻射束并生成在所述相應的一個或多個測量信號的集合內供應的第二接收信號的光學傳感器。

技術領域

本公開涉及用于借助于各種波長（x射線、紅外IR和/或近紅外NIR或可見光）的光譜學技術、以及可選地人工視覺進行質量控制的方法。

一個或多個實施例可以在材料的合規性（compliance）驗證和質量控制的情景中、特別是在工業生產線（例如工業包裝線）中應用。

背景技術

各種工業部門中的產品生產流程，其中例如，食品包裝或食品本身或所使用原材料的生產流程，設想進行樣品檢查，即，對從生產線取得的某個比例的產品進行分析，例如，在實驗室中使用破壞性技術實行的化學分析。

圖1是生產線10上的常規質量控制程序100的示例，其可以包括：

-破壞性樣品檢查階段，如圖1的a）部分中例示的；以及

-在先前階段中進行的樣品檢查的基礎上，選擇合規和不合規產品的階段，如圖1的b）部分中例示的。

如圖1中圖示的，樣品C可以從生產線10隨機取得并且被發送到實驗室L。在分析之后，實驗室L提供樣品C對生產參數的合規性或其它方式的指示。

在隨后的階段中，在實驗室L對該樣品C的贊成意見的基礎上，從中已經取得樣品的批次12可以被標記為“合規”。

然而，如果實驗室分析L認為合適的樣品C包括在包括不合規樣品C'的批次12中，則該不合規樣品C'可能被錯誤地標記為合規12'。

這樣的質量控制程序100具有由以下事實表示的限制，該事實為盡管進行了檢查，不合規產品C'、12'仍有可能最終在市場上，只要它們屬于生產線10的一個或多個批次12'，根據對樣品C實行的實驗室分析L，所述批次被認為是合規的。

為了保證每個單個產品在繼續進行到隨后的生產階段或在市場上引入之前均經分析，因此合期望的是：

-標識產品；以及

-支持產品在其各種生產階段中的可追溯性。

一些光譜學技術可以用作非破壞性分析技術，作為生產的部分支持。在這個框架中，用不同波長下的電磁波照射的樣品通過發射特性電磁輻射而響應于刺激，用這樣的光譜學技術對特性電磁輻射進行分析。

特別地，在上面的光譜學技術之中，已知使用x射線熒光（XRF），其可以使用便攜式接觸設備來采用，因此使得經由分析發射的電磁輻射來知道樣品的基本成分是可能的。

對準備好進行測量的樣品施行分析。例如，XRF分光光度法分析通常用靜態樣品（即，不移動、接觸并在室溫下的樣品）來實行。此外，可能必要對樣品進行預處理以用于實行測量。

因此，非破壞性分析技術的應用限于對固定在生產線旁邊的材料進行樣品測試，不使得能夠對連續生產流程實行化學或分子分析。