[發明專利]一種在工業生產線中操作質量控制的裝置、對應的方法和計算機程序產品

在審

• 申請號: 202080039227.0
• 申請日: 2020-03-23
• 公開（公告）號: CN114207420A
• 公開（公告）日: 2022-03-18
• 發明（設計）人: G·皮塔;V·拉羅薩
• 申請（專利權）人: 都靈設備科技有限責任公司
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223;G01N21/359;G01N35/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 李雪娜;呂傳奇

1.一種用于在工業生產線（10）上實行質量控制的裝置（20），包括用于測量所述工業生產線（10）的產品樣品（C）的性質的一個或多個裝置（30，40，50；Hz），所述一個或多個裝置（30，40，50；Hz）供應相應的一個或多個測量信號（Y1，Y2，Y3；YZ），所述裝置（20）包括被配置用于處理所述一個或多個測量信號（Y1，Y2，Y3；YZ）并且獲得所述產品樣品（C）的性質（60）的處理模塊（600），所述質量控制根據所述產品樣品（C）的所述性質（60）來實行，用于測量產品樣品（C）的性質的所述一個或多個裝置（30，40，50，HZ）包括：

- x射線熒光（XRF）裝置（30），包括x射線源（331），其在測量環境中朝向所述產品樣品（C）發射第一x射線束（XB，XBC），以及粒子檢測器（335），其被配置用于接收由所述產品樣品（C）散射的第二x射線束（XBR），并且生成在所述相應的一個或多個測量信號（Y1，Y2，Y3，YZ）的集合內供應的第一接收信號（Y1），

所述裝置（20）的特征在于，其進一步包括：

- 在屬于光學頻率范圍的頻帶中操作、優選地在近紅外的頻帶中操作的光學光譜學裝置（40），包括朝向產品樣品（C）發射第一光學輻射束的光學輻射源，以及用于接收由所述產品樣品（C）散射的第二輻射束并生成在所述相應的一個或多個測量信號（Y1，Y2，Y3；YZ）的集合內供應的第二接收信號（Y2）的光學傳感器。

2.根據權利要求1所述的裝置（20），其特征在于，其被配置用于在所述相應的一個或多個測量信號（Y1，Y2，Y3；YZ）的集合內供應所述第二接收信號（Y2），所述相應的一個或多個測量信號（Y1，Y2，Y3；YZ）被處理以獲得所述產品樣品（C）的性質（60），并且根據所述性質（60）實行所述質量控制。

3.根據權利要求1或權利要求2所述的裝置（20），其特征在于，其被配置用于根據在所述光學光譜學裝置（40）中生成的所述第二接收信號（Y2）的值來驅動所述x射線熒光裝置（30）的操作，特別是用于使得所述x射線熒光裝置（30）能夠發射。

4.根據前述權利要求中任一項所述的裝置（20），其特征在于，其被配置用于驅動所述x射線源（331）和所述光學輻射源，以同時分別朝向產品樣品（C）發射x射線束（XB）和朝向相同的產品樣品（C）發射光學輻射束。

5.根據權利要求1所述的裝置（20），其特征在于，其包括人工視覺裝置（50），所述人工視覺裝置（50）包括圖像采集和處理系統，所述圖像采集和處理系統被配置用于獲取和處理所述測量環境中的所述產品樣品（C）的圖像，并且生成第三接收信號（Y3），所述第三接收信號（Y3）可以被分析以用于對所述產品樣品（C）進行分類和/或用于驅動所述x射線熒光裝置（30）。

6.根據權利要求5所述的裝置（20），其特征在于，其包括以下中的至少一個：

- 單色環境光源，其被配置用于照明所述測量環境，優選地為藍色單色環境光源，以及

- 被配置用于驅動所述單色環境光源的模塊。

7.根據前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，其包括由具有高原子序數的材料和/或放射性發光材料制成的靶（HZ），所述靶（HZ）超出樣品（C）的遠端表面定位，并且沿著第一x射線束（XB，XBC）和/或第二x射線束（XBR）的軌跡。

8.根據前述權利要求中任一項所述的裝置（20），其特征在于，所述x射線熒光裝置（30）包括：

XRF控制模塊（300），其被配置用于驅動以下操作中的至少一個：

- 修改所述第一x射線束（XB）的軸線與探測器（35）的觀察軸線之間的角度（α）,以便修改所述第一x射線束（XB，XBC）的焦點（F）的位置，特別是深度和/或水平位置，以及

- 使在射束（XB）的軸線與垂直于產品樣品（C）的表面的軸線（P）之間計算的入射角變化；

以及用于以獨立的方式相對于垂直軸線（P）將觀察軸線位移到觀察角的另外的子布置。