[發明專利]用于高溫腐蝕環境的基板支承件蓋在審
| 申請號: | 202080037702.0 | 申請日: | 2020-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN113924387A | 公開(公告)日: | 2022-01-11 |
| 發明(設計)人: | 盛殊然;林·張;黃際勇;約瑟夫·C·沃納;斯坦利·吳;馬赫什·阿迪納特·卡納瓦德;陳奕凱;宜興·林;英瑪 | 申請(專利權)人: | 應用材料公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458;C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國;趙靜 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 高溫 腐蝕 環境 支承 | ||
1.一種處理腔室,包含:
腔室主體;
基板支承件,所述基板支承件布置在所述腔室主體中,所述基板支承件包含表面和連接至所述表面的側表面;和
基板支承件蓋,所述基板支承件蓋可移除地布置在所述基板支承件上,所述基板支承件蓋包含氟化物材料,并且所述基板支承件蓋暴露至所述處理腔室中的處理區域。
2.如權利要求1所述的處理腔室,其中所述氟化物材料包含氟化鎂或氟化稀土。
3.如權利要求1所述的處理腔室,其中所述基板支承件蓋進一步包含板,所述板具有與所述基板支承件相同的直徑或比所述基板支承件更小的直徑。
4.如權利要求3所述的處理腔室,其中所述基板支承件蓋進一步包含側蓋,其中所述側蓋布置在所述基板支承件的所述表面的部分上,并且其中所述側蓋面向所述側表面。
5.如權利要求1所述的處理腔室,其中所述基板支承件蓋進一步包含與所述基板支承件的所述表面接觸的第一表面,與所述第一表面相對的第二表面,從所述第一表面延伸并且面向所述基板支承件的所述側表面的第三表面,從所述第二表面延伸并且與所述第三表面相對的第四表面,和連接所述第三表面和所述第四表面的第五表面。
6.如權利要求5所述的處理腔室,其中所述基板支承件蓋進一步包含塊狀層,所述塊狀層包括所述第一表面、所述第二表面、所述第三表面、所述第四表面和所述第五表面,其中所述基板支承件蓋進一步包含涂布層,所述涂布層布置在所述塊狀層的所述第一表面、所述第二表面、所述第三表面、所述第四表面和所述第五表面的至少一個上,并且所述涂布層包含所述氟化物材料。
7.如權利要求6所述的處理腔室,其中所述塊狀層包含硅、二氧化硅、氮化鋁、氧化鋁或石英,并且所述氟化物材料包含氟化鎂或氟化稀土。
8.如權利要求1所述的處理腔室,其中所述基板支承件蓋進一步包含塊狀層,所述塊狀層具有第一表面、第二表面、第三表面和第四表面,其中所述基板支承件蓋進一步包含涂布層,所述涂布層布置在所述塊狀層的所述第一表面、所述第二表面、所述第三表面和所述第四表面的至少一個上,其中所述涂布層包含所述氟化物材料。
9.如權利要求8所述的處理腔室,其中所述塊狀層包含硅、二氧化硅、氮化鋁、氧化鋁或石英,并且所述氟化物材料包含氟化鎂或氟化稀土。
10.如權利要求2、權利要求7或權利要求9的任一所述的處理腔室,其中所述氟化稀土包含氟化釔或氟化鑭。
11.如權利要求10所述的處理腔室,其中所述氟化鑭用硼和/或碳摻雜。
12.一種方法,包含以下步驟:
從處理腔室移除基板;
在布置在所述處理腔室中的基板支承件上放置基板支承件蓋,所述基板支承件蓋包含氟化物材料;和
當所述基板支承件蓋在所述基板支承件上時,在所述處理腔室中實行清潔處理,所述基板支承件蓋的所述氟化物材料在所述清潔處理期間暴露至清潔氣體或清潔物質。
13.如權利要求12所述的方法,進一步包含以下步驟:在所述清潔處理之后在所述處理腔室中實行陳化處理,其中所述陳化處理以所述基板支承件蓋布置在所述基板支承件上而實行。
14.一種基板支承件蓋,包含:
板,所述板包含氟化物材料;和
側蓋,所述側蓋可移除地耦接至所述板,所述側蓋延伸穿過所述板。
15.如權利要求14所述的基板支承件蓋,其中所述側蓋包含兩個或多個節段。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





