[發明專利]曝光用鏡、曝光用鏡的制造方法以及具備該曝光用鏡的曝光裝置

在審

• 申請號: 202080029340.0
• 申請日: 2020-04-07
• 公開（公告）號: CN113711127A
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發明（設計）人: 麻籍文;吉本芳幸
• 申請（專利權）人: 株式會社V技術
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B5/08
• 代理公司: 北京奉思知識產權代理有限公司 11464
• 代理人: 鄒軼鮫;石紅艷

1.一種曝光用鏡，用于反射來自光源的光，所述曝光用鏡的特征在于，具備：

反射膜，所述反射膜形成于板狀玻璃的表面側，能夠反射來自所述光源的光；以及

導電性的成膜圖案，所述導電性的成膜圖案以比所述反射膜薄且從一端部到另一端部連續的方式成膜于所述板狀玻璃的背面側。

2.根據權利要求1所述的曝光用鏡，其特征在于，

所述成膜圖案在所述曝光用鏡損傷時斷裂從而能夠檢測所述曝光用鏡的損傷。

3.根據權利要求1或2所述的曝光用鏡，其特征在于，

所述成膜圖案沿著所述板狀玻璃的外周部成膜。

4.根據權利要求1或2所述的曝光用鏡，其特征在于，

所述成膜圖案以從所述一端部經過所述板狀玻璃的外周部和內部到所述另一端部連續的方式成膜。

5.根據權利要求1或2所述的曝光用鏡，其特征在于，

所述成膜圖案在從所述一端部到所述另一端部之間，并聯連接有電阻值各不相同的多個圖案。

6.根據權利要求1或2所述的曝光用鏡，其特征在于，

在應力作用于所述成膜圖案時，所述成膜圖案的電阻值發生變化，從而能夠檢測所述曝光用鏡的應變量。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的曝光用鏡，其特征在于，

所述反射膜和所述成膜圖案由相同的金屬材料成膜。

8.一種曝光用鏡的制造方法，所述曝光用鏡用于反射來自光源的光，所述曝光用鏡的制造方法的特征在于，具備：

在板狀玻璃的背面側，對從一端部到另一端部連續的導電性的成膜圖案的周圍進行遮蔽的工序；以及

從所述板狀玻璃的表面側蒸鍍或濺射金屬材料，從而將能夠反射來自所述光源的光的反射膜成膜在所述板狀玻璃的表面側且將所述成膜圖案成膜在所述板狀玻璃的背面側的工序。

9.一種曝光裝置，其特征在于，

具備照明裝置，所述照明裝置具有：光源；積分器，所述積分器使來自所述光源的光均勻地射出；以及權利要求1～7中任1項所述的曝光用鏡，所述曝光用鏡反射從所述積分器出射的所述光，

將來自所述照明裝置的光經由掩模而照射在工件上，將所述掩模的曝光圖案曝光轉印到所述工件。

10.根據權利要求9所述的曝光裝置，其特征在于，

所述曝光用鏡具備鏡彎曲機構，所述鏡彎曲機構設置于所述曝光用鏡的背面側且能夠變更所述曝光用鏡的曲率。