[發明專利]臭氧水制造裝置、臭氧水制造方法、臭氧水、臭氧水處理裝置和評價方法在審
| 申請號: | 202080025929.3 | 申請日: | 2020-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN113646269A | 公開(公告)日: | 2021-11-12 |
| 發明(設計)人: | 釜瀨幸廣;廣中伸治 | 申請(專利權)人: | 株式會社IHI |
| 主分類號: | C02F1/50 | 分類號: | C02F1/50;B01F3/04;B05B17/04;C09K3/30;A01N59/06 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 陳彥;胡玉美 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 臭氧 制造 裝置 方法 水處理 評價 | ||
臭氧水制造裝置(100)具備:溶液容納部(110),容納將1.0質量%以上且小于4.0質量%的鎂化合物溶解于水中而成的鎂溶液(M);以及氣泡導入部(120),向鎂溶液(M)中導入臭氧的細小氣泡。
技術領域
本公開涉及臭氧水制造裝置、臭氧水制造方法、臭氧水、臭氧水處理裝置和評價方法。本申請主張基于2019年3月29日提交的日本專利申請第2019-067035號和2019年11月25日提交的日本專利申請第2019-212054號的優先權的利益,其內容被引用于本申請。
背景技術
在醫療器械等對象物的消毒、殺菌、除臭等中利用臭氧水。以往的臭氧水中所含的臭氧氣泡的粒徑大至100μm以上。因此,以往的臭氧水能夠在水中保持臭氧的時間短至1~2小時程度。因此,以往必須在剛制造臭氧水之后進行對象物的消毒、殺菌、除臭等。
因此,開發了在含有4.0%以上鹵水的水中產生臭氧的微泡來制造臭氧水的技術(例如,專利文獻1)。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本專利第5261569號公報
發明內容
發明所要解決的課題
但是,鹵水是由使食鹽從海水析出后的殘液來制造的,因此組成會根據海水的采集場所、采集時期等而變動。因此,向溶解有鹵水的水中供給臭氧而制造的上述專利文獻1那樣的臭氧水存在臭氧的氣泡含量不穩定這樣的課題。
本公開鑒于這樣的課題,目的在于提供能夠在水中長時間保持臭氧并且使臭氧的氣泡含量穩定的臭氧水制造裝置、臭氧水制造方法、臭氧水、臭氧水處理裝置和評價方法。
用于解決課題的手段
為了解決上述課題,本公開的一個技術方案所涉及的臭氧水制造裝置具備溶液容納部和氣泡導入部,該溶液容納部容納將1.0質量%以上且小于4.0質量%的鎂化合物溶解于水中而成的鎂溶液,該氣泡導入部向鎂溶液中導入臭氧的細小氣泡。
為了解決上述課題,在本公開的一個技術方案所涉及的臭氧水制造方法中,向將1.0質量%以上且小于4.0質量%的鎂化合物溶解于水中而成的鎂溶液中導入臭氧的細小氣泡。
為了解決上述課題,本公開的一個技術方案所涉及的臭氧水包含1.0質量%以上且小于4.0質量%的鎂化合物和臭氧的細小氣泡。
為了解決上述課題,本公開的一個技術方案所涉及的臭氧水處理裝置具備噴霧部,該噴霧部將包含1.0質量%以上且小于4.0質量%的鎂化合物和臭氧的細小氣泡的臭氧水以粒徑10μm以下進行噴霧。
為了解決上述課題,本公開的一個技術方案所涉及的評價方法包含如下工序:在距噴霧部的距離不同的多個測定點設置規定數量的菌的工序,所述噴霧部將包含1.0質量%以上且小于4.0質量%的鎂化合物和臭氧的細小氣泡的臭氧水以粒徑10μm以下進行噴霧;噴霧部將臭氧水以粒徑10μm以下進行噴霧的工序;以及從執行噴霧的工序起經過規定時間后,對多個測定點的每個測定點的菌的數量進行計數的工序。
發明效果
根據本公開,能夠在水中長時間保持臭氧,并且使臭氧的氣泡含量穩定。
附圖說明
[圖1]圖1是說明臭氧水制造裝置的圖。
[圖2]圖2是說明臭氧水制造方法的處理流程的流程圖。
[圖3]圖3是表示使用了比較例A-1~比較例A-3以及比較例B-1~比較例B-3的臭氧水的殺菌試驗的結果的圖。
[圖4]圖4是表示使用了實施例A-1~實施例A-4的臭氧水的殺菌試驗的結果的圖。
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