[發明專利]臭氧水制造裝置、臭氧水制造方法、臭氧水、臭氧水處理裝置和評價方法在審
| 申請號： | 202080025929.3 | 申請日： | 2020-03-26 |
| 公開（公告）號： | CN113646269A | 公開（公告）日： | 2021-11-12 |
| 發明（設計）人： | 釜瀨幸廣;廣中伸治 | 申請（專利權）人： | 株式會社IHI |
| 主分類號： | C02F1/50 | 分類號： | C02F1/50;B01F3/04;B05B17/04;C09K3/30;A01N59/06 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人： | 陳彥;胡玉美 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 臭氧 制造 裝置 方法 水處理 評價 | ||
【權利要求書】：
1.一種臭氧水制造裝置，具有：
溶液容納部，容納將1.0質量％以上且小于4.0質量％的鎂化合物溶解于水中而成的鎂溶液；以及
氣泡導入部，向所述鎂溶液中導入臭氧的細小氣泡。
2.一種臭氧水制造方法，向將1.0質量％以上且小于4.0質量％的鎂化合物溶解于水中而成的鎂溶液中導入臭氧的細小氣泡。
3.一種臭氧水，其包含1.0質量％以上且小于4.0質量％的鎂化合物和臭氧的細小氣泡。
4.一種臭氧水處理裝置，其具備噴霧部，所述噴霧部將包含1.0質量％以上且小于4.0質量％的鎂化合物和臭氧的細小氣泡的臭氧水以粒徑10μm以下進行噴霧。
5.一種評價方法，包含如下工序：
在距噴霧部的距離不同的多個測定點設置規定數量的菌的工序，其中，所述噴霧部將包含1.0質量％以上且小于4.0質量％的鎂化合物和臭氧的細小氣泡的臭氧水以粒徑10μm以下進行噴霧；
所述噴霧部將所述臭氧水以粒徑10μm以下進行噴霧的工序；以及
從執行所述噴霧的工序起經過規定時間后，對所述多個測定點的每個測定點的所述菌的數量進行計數的工序。
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