[發明專利]用于壓模產生和固化的方法和設備

在審

• 申請號: 202080018072.2
• 申請日: 2020-02-28
• 公開（公告）號: CN113508336A
• 公開（公告）日: 2021-10-15
• 發明（設計）人: 邁克爾·Y·揚;盧多維克·戈代;羅伯特·J·維瑟
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G03F7/16;G03F7/20;B29C59/02
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國;趙靜

1.一種生產用于產生電氣/光學部件的壓模的副本的方法，包括：

提供所述壓模；

用紫外線阻擋材料涂覆所述壓模的底表面；

固化在所述底表面上的所述紫外線阻擋材料；

使所述壓模與由壓印抗蝕劑層覆蓋的目標基板接觸；

在所述壓模與所述目標基板的所述接觸期間固化具有紫外線阻擋材料的所述壓印抗蝕劑層；和

將所述壓模從具有所述固化壓印抗蝕劑層的所述目標基板釋放。

2.如權利要求1所述的方法，其中所述壓模具有雙鰭片配置。

3.如權利要求1所述的方法，其中所述壓模具有傾斜鰭片配置。

4.如權利要求1所述的方法，其中所述底表面上的所述紫外線阻擋材料的所述固化是通過熱輸入的。

5.如權利要求4所述的方法，其中所述底表面上的所述紫外線阻擋材料的所述固化是通過添加的壓力的。

6.如權利要求1所述的方法，其中所述底表面上的所述紫外線阻擋材料的所述固化是通過添加的壓力的。

7.一種用于生產壓模的方法，包括：

提供主體基板；

用涂覆層涂覆所述主體基板；

用光刻工具處理具有所述涂覆層的所述主體基板以產生待復制的表面；

用抗粘材料處理所述待復制的表面；

用紫外線阻擋層填充所述壓模的間隙；

固化所述紫外線阻擋層；

將材料層放置到具有所述紫外線阻擋層的待復制的所述表面上；

向待復制的表面上的所述材料層放置粘附層以產生布置；

在所述布置與背襯之間產生受控的氣隙；

用聚二甲硅氧烷填充所述受控的氣隙；

固化用所述聚二甲硅氧烷填充的所述間隙；

在所述抗粘材料處將所述布置與所述背襯分離，從而產生頂部壓模部分；

將所述頂部壓模部分放置在具有抗蝕劑層的目標壓印基板上方；

使所述頂部壓模部分與具有所述抗蝕劑層的所述目標壓印基板接觸；

將所述頂部壓模部分從具有所述抗蝕劑層的所述目標壓印基板去除；和

固化所述目標壓印基板上的所述抗蝕劑層。

8.如權利要求7所述的方法，其中將所述材料放置到所述表面上是通過旋涂工藝的。

9.如權利要求8所述的方法，其中所述抗粘材料是單層材料。

10.如權利要求7所述的方法，其中所述抗粘材料是單層材料。

11.一種制造電氣/光學部件的方法，包括：

在由納米粒子抗蝕劑層覆蓋的基板上方放置包含用于復制所述電氣/光學部件的表面的壓模，壓模具有紫外線阻擋材料的表面涂層；

在由所述納米粒子抗蝕劑層覆蓋的所述基板與所述壓模之間建立接觸；

向由所述納米粒子抗蝕劑層覆蓋的所述基板和所述壓模施予輻射；

在所述輻射未受到所述紫外線阻擋材料保護的情況下使所述納米粒子抗蝕劑的至少一部分凝固；

將所述由納米粒子抗蝕劑覆蓋的基板從所述壓模分離；和

從所述壓模去除殘留的抗蝕劑的區段。

12.如權利要求11所述的方法，其中所述電氣/光學部件是二元鰭片光柵。

13.如權利要求11所述的方法，其中所述電氣/光學部件是傾斜鰭片光柵。

14.如權利要求11所述的方法，其中所述納米粒子抗蝕劑由直徑小于50mm的材料制成。

15.如權利要求11所述的方法，其中所述納米粒子抗蝕劑至少部分地由二氧化鈦制成。