[發(fā)明專利]微流體設(shè)備及試樣分析方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202080015365.5
• 申請(qǐng)日: 2020-02-19
• 公開（公告）號(hào): CN113490854A
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 后藤圭佑;牧野洋一;鈴木雄太
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 凸版印刷株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G01N37/00
• 分類號(hào): G01N37/00;C12M1/00;G01N35/08
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 白麗

1.一種微流體設(shè)備，其具備具有多個(gè)微孔的微孔陣列和以離開的狀態(tài)與所述微孔陣列相向的蓋構(gòu)件，在所述微孔陣列與所述蓋構(gòu)件之間具有流路，所述蓋構(gòu)件的微孔陣列側(cè)的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra為70nm以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微流體設(shè)備，其中，所述蓋構(gòu)件的微孔陣列側(cè)的表面與水的接觸角為70度以上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的微流體設(shè)備，其中，所述蓋構(gòu)件的微孔陣列側(cè)的表面的表面粗糙度Rz為350nm以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的微流體設(shè)備，其中，所述蓋構(gòu)件的微孔陣列側(cè)的表面的Ra/Rz為0.10以上且0.24以下。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的微流體設(shè)備，其中，對(duì)所述蓋構(gòu)件的微孔陣列側(cè)的表面實(shí)施有疏水性涂覆。

6.一種試樣分析方法，其為使用了權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的微流體設(shè)備的試樣分析方法，其具備：

將含有試樣的水性液體供給到所述流路中；

向所述流路導(dǎo)入封閉液，與存在于所述流路內(nèi)的所述水性液體置換，將所述水性液體封入在所述微孔中；

對(duì)所述微流體設(shè)備進(jìn)行加熱，在所述微孔中引起反應(yīng)，產(chǎn)生用于檢測(cè)的信號(hào)；以及

對(duì)所述信號(hào)進(jìn)行檢測(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的試樣分析方法，其特征在于，所述試樣為DNA、RNA、蛋白質(zhì)、脂質(zhì)、細(xì)胞或細(xì)菌。