[發(fā)明專利]用于DAX成像的全視場(chǎng)散射估計(jì)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202080014912.8 | 申請(qǐng)日： | 2020-11-25 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN113453623B | 公開（公告）日： | 2022-08-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | S·P·普雷弗爾哈爾;T·克勒;K·J·恩格爾 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號(hào)： | A61B6/00 | 分類號(hào)： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人： | 劉兆君 |
| 地址： | 荷蘭艾*** | 國(guó)省代碼： | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 dax 成像 視場(chǎng) 散射 估計(jì) | ||
1.一種被配置用于相襯成像和/或暗場(chǎng)成像的X射線成像系統(tǒng)(XI)，包括：
X射線源(XS)，其能操作用于使X輻射從所述源(XS)的焦斑發(fā)出；
X射線敏感探測(cè)器(D)，其能操作用于：如果在所述X射線源與所述探測(cè)器(D)之間存在要被成像的對(duì)象，則在所述X輻射與所述對(duì)象發(fā)生相互作用之后探測(cè)所述X輻射；
控制邏輯單元(CL)，其能操作用于使所述X射線成像系統(tǒng)在兩種模式中的任意一種模式中操作，所述兩種模式是對(duì)象圖像采集模式和散射測(cè)量模式，其中，當(dāng)在散射測(cè)量模式中時(shí)在所述探測(cè)器處能接收到的所述X輻射與當(dāng)所述X射線成像系統(tǒng)在對(duì)象圖像采集模式中時(shí)能接收到的X輻射相比包括更高比例的散射輻射；以及
散射校正器(SC)，其能操作用于基于所測(cè)量的散射數(shù)據(jù)來(lái)減少或者促進(jìn)減少或者防止能根據(jù)在對(duì)象圖像采集模式中采集的數(shù)據(jù)生成的對(duì)象圖像中的散射偽影。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像系統(tǒng)，包括被布置在所述X射線源與所述探測(cè)器(D)之間的散射測(cè)量促進(jìn)器(SMF)，所述散射測(cè)量促進(jìn)器(SMF)的至少一個(gè)或多個(gè)部分能夠阻擋X輻射，當(dāng)所述X射線成像系統(tǒng)在散射測(cè)量模式中時(shí)，所述控制邏輯單元使所述散射測(cè)量促進(jìn)器的姿態(tài)相對(duì)于當(dāng)所述X射線成像系統(tǒng)在對(duì)象圖像采集模式中時(shí)所述散射測(cè)量促進(jìn)器的姿態(tài)發(fā)生變化，使得所述至少一個(gè)或多個(gè)部分阻擋所述X輻射中的至少一些X輻射。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的X射線成像系統(tǒng)，其中，所述散射測(cè)量促進(jìn)器(SMF)包括以下各項(xiàng)中的任意一項(xiàng)或多項(xiàng)：i)抗散射網(wǎng)格(ASG)，ii)干涉儀(G0、G1、G2)的至少部分，iii)編碼孔徑板。
4.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的X射線成像系統(tǒng)，其中，所述X輻射的方向能通過(guò)源接口(SF)發(fā)生改變，其中，當(dāng)所述X射線成像系統(tǒng)在對(duì)象圖像采集模式中時(shí)，所述控制邏輯單元(CL)通過(guò)所述源接口(SF)使X輻射沿著第一方向發(fā)出，而當(dāng)所述X射線成像系統(tǒng)在散射測(cè)量模式中時(shí)，所述控制邏輯單元通過(guò)所述源接口使所述X輻射沿著不同于所述第一方向的第二方向發(fā)出。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的X射線成像系統(tǒng)，其中，當(dāng)所述散射測(cè)量促進(jìn)器(SMF)包括所述干涉儀(G0、G1、G2)的至少部分時(shí)，當(dāng)在散射測(cè)量模式中時(shí)，所述控制邏輯單元(CL)使所述干涉儀或所述干涉儀的所述部分的姿態(tài)發(fā)生變化，以便減少在所述探測(cè)器處能探測(cè)到的條紋圖案。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3中的任一項(xiàng)所述的X射線成像系統(tǒng)，其中，所述X射線成像系統(tǒng)是全視圖成像系統(tǒng)。
7.一種被配置用于相襯成像和/或暗場(chǎng)成像的X射線成像方法，包括以下步驟：
使(S210)被配置用于相襯成像和/或暗場(chǎng)成像的X射線成像系統(tǒng)(XI)在兩種模式中的任意一種模式中操作，所述兩種模式是對(duì)象圖像采集模式和散射測(cè)量模式，其中，當(dāng)在散射測(cè)量模式中時(shí)在所述X射線成像系統(tǒng)(XI)的探測(cè)器(D)處能接收到的X輻射與當(dāng)所述X射線成像系統(tǒng)在對(duì)象圖像采集模式中時(shí)能接收到的X輻射相比包括更高比例的散射輻射；并且
基于所測(cè)量的散射數(shù)據(jù)來(lái)減少(S220)或者促進(jìn)減少或者防止能根據(jù)在對(duì)象圖像采集模式中采集的數(shù)據(jù)生成的對(duì)象圖像中的散射偽影。
8.一種計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，存儲(chǔ)計(jì)算機(jī)程序，當(dāng)由至少一個(gè)處理單元(PU)運(yùn)行時(shí)，所述計(jì)算機(jī)程序適于使所述處理單元(PU)執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法。
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