[發(fā)明專利]檢測(cè)稀有隨機(jī)缺陷的系統(tǒng)與方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202080014344.1
• 申請(qǐng)日: 2020-02-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113424107B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: G·科恩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 應(yīng)用材料以色列公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G01N21/956
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 侯穎媖;張?chǎng)?/td>

1.一種用于檢測(cè)稀有隨機(jī)缺陷的方法，所述方法包括：

在基板的密集圖案中搜尋稀有隨機(jī)缺陷，其中所述稀有隨機(jī)缺陷(a)是納米級(jí)的，(b)以低于10^-9的缺陷密度出現(xiàn)在所述基板的功能性圖案中，以及(c)以高于10^-7的缺陷密度出現(xiàn)在所述密集圖案中；其中所述密集圖案為所述功能性圖案的密集表示，所述密集圖案不同于所述功能性圖案，不同之處在于(a)所述密集圖案的特征之間的距離以及(b)所述密集圖案的所述特征的寬度中的至少一者；以及

基于所述搜尋的結(jié)果來(lái)估計(jì)所述功能性圖案內(nèi)的所述稀有隨機(jī)缺陷的發(fā)生。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述估計(jì)包括：

確定所述密集圖案中的所述稀有隨機(jī)缺陷的缺陷密度；以及

基于(a)所述密集圖案中的所述稀有隨機(jī)缺陷的所述缺陷密度以及(b)密集圖案與功能性圖案內(nèi)的所述稀有隨機(jī)缺陷的缺陷密度之間的關(guān)系來(lái)確定所述功能性圖案中的所述稀有隨機(jī)缺陷的缺陷密度。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述密集圖案和所述功能性圖案為線條的陣列，并且搜尋所述稀有隨機(jī)缺陷包括：搜尋線條內(nèi)的切口以及線條之間的不想要的橋中的至少一者。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述密集圖案和所述功能性圖案為點(diǎn)的陣列，并且搜尋所述稀有隨機(jī)缺陷包括：搜尋缺失點(diǎn)以及點(diǎn)之間的不想要的橋中的至少一者。

5.如權(quán)利要求1所述的方法，包括：基于所述功能性圖案內(nèi)的所述稀有隨機(jī)缺陷的所述發(fā)生來(lái)評(píng)估所述基板的質(zhì)量，其中評(píng)估所述基板的所述質(zhì)量包括：當(dāng)所述功能性圖案內(nèi)的所述稀有隨機(jī)缺陷的缺陷密度超過(guò)預(yù)定義閾值時(shí)使基板不合格。

6.如權(quán)利要求1所述的方法，包括：通過(guò)以下方式來(lái)響應(yīng)所述功能性圖案內(nèi)的所述稀有隨機(jī)缺陷的所述發(fā)生：將所述功能性圖案中的估計(jì)的缺陷密度與所述功能性圖案中的可允許的缺陷閾值進(jìn)行比較并確定所述基板是可接受的還是有缺陷的。

7.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述搜尋包括：通過(guò)帶電粒子束來(lái)照射所述密集圖案。

8.如權(quán)利要求1所述的方法，包括：

在所述基板的另一密集圖案中搜尋另一稀有隨機(jī)缺陷；其中所述另一稀有隨機(jī)缺陷以低于10^-9的缺陷密度出現(xiàn)在所述基板的另一功能性圖案中并且以高于10^-7的缺陷密度出現(xiàn)在所述另一密集圖案中；其中所述另一密集圖案為所述另一功能性圖案的密集表示，所述另一密集圖案與所述另一功能性圖案不同，不同之處在于(a)所述另一密集圖案的特征之間的距離以及(b)所述另一密集圖案的所述特征的寬度中的至少一者；其中所述另一稀有隨機(jī)缺陷在類型上與稀有隨機(jī)缺陷不同；以及

基于所述搜尋所述另一稀有隨機(jī)缺陷的結(jié)果來(lái)估計(jì)所述另一功能性圖案內(nèi)的所述另一稀有隨機(jī)缺陷的所述發(fā)生。

9.如權(quán)利要求8所述的方法，其中搜尋另一稀有隨機(jī)缺陷包括：通過(guò)帶電粒子束來(lái)照射所述另一密集圖案。

10.一種計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，所述計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)為非暫時(shí)性的并且存儲(chǔ)指令，所述指令用于

在基板的密集圖案中搜尋稀有隨機(jī)缺陷，其中所述稀有隨機(jī)缺陷以低于10^-9的缺陷密度出現(xiàn)在所述基板的功能性圖案中并且以高于10^-7的缺陷密度出現(xiàn)在所述密集圖案中；其中所述密集圖案為所述功能性圖案的密集表示，所述密集圖案不同于所述功能性圖案，不同之處在于(a)所述密集圖案的特征之間的距離以及(b)所述密集圖案的所述特征的寬度中的至少一者；以及

基于所述搜尋的結(jié)果來(lái)估計(jì)所述功能性圖案內(nèi)的所述稀有隨機(jī)缺陷的發(fā)生。