[發(fā)明專利]掩模板遮片和掩模板設(shè)備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202080003670.2
• 申請日: 2020-12-25
• 公開（公告）號: CN114981468A
• 公開（公告）日: 2022-08-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 牛彤;嵇鳳麗;羅昶;徐倩;張國夢;黃琰;李劍波
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 張啟程

本申請?zhí)峁┮环N用于在基板上蒸鍍的掩模板遮片，包括：沿著第一方向延伸的多個第一肋條；和沿著第二方向延伸的多個第二肋條，所述第二方向與所述第一方向相交；其中，所述多個第一肋條和所述多個第二肋條相互交叉以形成多個開口區(qū)，其中，所述掩模板遮片包括用于蒸鍍基板上的第一曝光區(qū)的第一區(qū)域和用于蒸鍍基板上的第二曝光區(qū)的第二區(qū)域，在所述第一區(qū)域和第二區(qū)域的分界處設(shè)置第三肋條，所述第三肋條用于遮擋基板上的第一曝光區(qū)和第二曝光區(qū)之間的重疊曝光區(qū)，所述第三肋條包括第一子肋條和第二子肋條以及將第一子肋條和第二子肋條間隔開的間隔部，所述第三肋條的寬度大于所述第一肋條的寬度。

PCT國內(nèi)申請，說明書已公開。