[實用新型]一種腔蓋、腔體以及等離子體化學氣相沉積設備

有效

• 申請號: 202023349053.4
• 申請日: 2020-12-31
• 公開（公告）號: CN214168124U
• 公開（公告）日: 2021-09-10
• 發明（設計）人: 劉文科;黃春林;胡宗義
• 申請（專利權）人: 成都紐曼和瑞微波技術有限公司
• 主分類號: C23C16/511
• 分類號: C23C16/511;C23C16/52
• 代理公司: 北京卓恒知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11394
• 代理人: 孔鵬

1.一種腔蓋，其特征在于，包括：

主體，所述主體包括至少兩個腔體，所述至少兩個腔體同軸設置，且所述至少兩個腔體的直徑沿其軸線的方向依次增大，所述主體的外壁上設置有第一凹槽；以及

覆蓋片，所述覆蓋片與所述主體可拆卸連接，且所述覆蓋片覆蓋在所述第一凹槽處形成第一冷卻水通道。

2.根據權利要求1所述的腔蓋，其特征在于，相鄰的兩個所述腔體之間設置有過渡腔，所述過渡腔的直徑沿直徑較小的所述腔體朝向直徑較大的腔體的方向逐漸增大。

3.根據權利要求1或者2所述的腔蓋，其特征在于，所述主體上還設置有第二凹槽，所述第二凹槽位于所述主體的頂部，所述第二凹槽與所述第一凹槽間隔設置，所述腔蓋還包括頂板，所述頂板與所述主體可拆卸連接，且所述頂板覆蓋在所述第二凹槽處形成第二冷卻水通道。

4.根據權利要求3所述的腔蓋，其特征在于，所述第二凹槽包括兩個對稱的彎折槽，每個所述彎折槽包括同心布置且從內到外半徑逐漸增大的多個圓弧形的槽。

5.一種腔體，其特征在于，包括底板和如權利要求1至4任一項所述腔蓋，所述底板安裝于所述主體，且所述底板安裝于最大的所述腔體處，所述底板上設置有多個通孔，多個所述通孔均與所述腔體連通。

6.根據權利要求5所述的腔體，其特征在于，所述底板上設置有凸起，所述凸起沿所述底板的周向呈環形，所述凸起卡接于所述主體。

7.根據權利要求6所述的腔體，其特征在于，所述凸起的外側壁設置為第一斜面，所述第一斜面沿所述底板朝向所述主體的方向向內傾斜，所述主體上設置有與所述第一斜面配合的第二斜面，所述第二斜面與所述第一斜面平行設置。

8.根據權利要求7所述的腔體，其特征在于，所述底板和/或所述凸起上設置有環狀的第三凹槽，所述第三凹槽用于安裝密封條。

9.根據權利要求5所述的腔體，其特征在于，所述底板上設置有過濾網，所述過濾網位于所述通孔內。

10.一種等離子體化學氣相沉積設備，其特征在于，包括如權利要求5至9任一項所述的腔體或權利要求1-4任一項所所述的腔蓋。