[實用新型]干蝕刻裝置

有效

• 申請號: 202023337409.2
• 申請日: 2020-12-30
• 公開（公告）號: CN213660361U
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 彭軍;歐鳳;權亞平;葉明軍;張洋銘;王運均
• 申請（專利權）人: 成都中電熊貓顯示科技有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 黃溪;劉芳

1.一種干蝕刻裝置，用于對基板進行蝕刻，其特征在于，包括第一電極和保護框，所述保護框圍設在所述第一電極的周向邊緣，所述保護框與所述第一電極之間具有間隙，所述第一電極用于在所述基板上方形成電場；

所述保護框具有內腔，所述內腔用于容納加熱體或者加熱介質，以使所述加熱體或者加熱介質通入所述內腔中，從而對所述保護框進行加熱。

2.根據權利要求1所述的干蝕刻裝置，其特征在于，所述內腔沿所述保護框的長度方向延伸。

3.根據權利要求2所述的干蝕刻裝置，其特征在于，還包括第一加熱組件，所述第一加熱組件包括加熱元件，所述加熱元件設置在所述內腔中并形成所述加熱體，所述加熱元件沿所述內腔的長度方向延伸。

4.根據權利要求3所述的干蝕刻裝置，其特征在于，所述加熱元件與所述內腔的內壁抵接。

5.根據權利要求3所述的干蝕刻裝置，其特征在于，所述加熱元件為電阻絲或電阻片。

6.根據權利要求2所述的干蝕刻裝置，其特征在于，還包括第二加熱組件，所述第二加熱組件包括加熱介質發生器，所述加熱介質發生器和所述內腔連通，并用于向所述內腔中通入所述加熱介質。

7.根據權利要求6所述的干蝕刻裝置，其特征在于，所述第二加熱組件還包括連通管，所述連通管位于所述內腔中，且所述連通管的外壁和所述內腔腔壁接觸，所述加熱介質發生器和所述連通管連通，以向所述連通管內通入所述加熱介質。

8.根據權利要求1-7任一項所述的干蝕刻裝置，其特征在于，所述保護框包括多個保護段，多個所述保護段沿所述第一電極的外緣間隔設置。

9.根據權利要求8所述的干蝕刻裝置，其特征在于，多個所述保護段分別位于所述第一電極的不同側。

10.根據權利要求1-7任一項所述的干蝕刻裝置，其特征在于，還包括第二電極，所述第二電極與所述第一電極相對設置，所述基板位于所述第一電極與所述第二電極之間。