[實用新型]一種陶瓷盤平磨用真空吸盤

有效

• 申請號: 202023329747.1
• 申請日: 2020-12-30
• 公開（公告）號: CN214560017U
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發明（設計）人: 謝海龍
• 申請（專利權）人: 蘇州明立陽電子科技有限公司
• 主分類號: B24B41/06
• 分類號: B24B41/06
• 代理公司: 蘇州瞪羚知識產權代理事務所(普通合伙) 32438
• 代理人: 周治宇

本實用新型公開了一種陶瓷盤平磨用真空吸盤，該陶瓷盤平磨用真空吸盤包括吸附平臺和定位柱，吸附平臺的頂面開設有環形的吸附槽，吸附槽的外徑小于陶瓷盤的外徑，吸附槽的內徑大于陶瓷盤的軸孔的孔徑，吸附槽內設置有抽吸孔，吸附平臺還設置有與抽吸孔連通的抽吸通道和進氣通道；定位柱凸出設置于吸附平臺的頂面并位于吸附槽的中心，定位柱與陶瓷盤的軸孔相適配；陶瓷盤能夠通過軸孔套設于定位柱，以將陶瓷盤定位安裝于吸附平臺，并使陶瓷盤的盤面封閉吸附槽，通過抽吸通道抽吸吸附槽內的空氣，能夠將陶瓷盤吸附緊貼于吸附平臺的頂面。本實用新型的陶瓷盤平磨用真空吸盤，定位準確，吸附牢固，安裝穩定不易晃動，保證陶瓷盤的打磨效果，實用性強。

技術領域

本實用新型屬于打磨加工定位技術領域，尤其涉及一種陶瓷盤平磨用真空吸盤。

背景技術

在制作封測設備時，需要制作一些無磁零件，以保證對半導體測試的準確測試，陶瓷盤在封測設備中用于傳送半導體元件并在傳送過程中對半導體元件進行檢測。在加工陶瓷盤時，由于陶瓷盤為無磁材料,無法使用磁吸的方式固定陶瓷盤進行磨平加工，而需要使用真空吸附的方式將陶瓷盤固定于加工平臺上，但由于加工磨皮時，在打磨的過程中會使陶瓷盤發生移動，無法完全吸附固定，影響陶瓷盤的打磨效果。

需要說明的是，上述內容屬于發明人的技術認知范疇，并不必然構成現有技術。

實用新型內容

為了解決上述問題，本實用新型的目的是提供一種陶瓷盤平磨用真空吸盤，定位準確，吸附牢固，安裝穩定不易晃動，保證陶瓷盤的打磨效果，實用性強。

為實現上述目的，本實用新型提出了一種陶瓷盤平磨用真空吸盤，陶瓷盤中心設置軸孔，其特征在于，所述陶瓷盤平磨用真空吸盤吸附平臺和定位柱，所述吸附平臺的頂面開設有環形的吸附槽，所述吸附槽的外徑小于所述陶瓷盤的外徑，所述吸附槽的內徑大于所述陶瓷盤的所述軸孔的孔徑，所述吸附槽內設置有抽吸孔，所述吸附平臺還設置有與所述抽吸孔連通的抽吸通道和進氣通道；所述定位柱凸出設置于所述吸附平臺的頂面并位于所述吸附槽圍繞區域的中心，所述定位柱與所述陶瓷盤的所述軸孔相適配；所述陶瓷盤能夠通過所述軸孔套設于所述定位柱，以將所述陶瓷盤定位安裝于所述吸附平臺，并使所述陶瓷盤的盤面封閉所述吸附槽，通過所述抽吸通道抽吸所述吸附槽內的空氣，能夠將所述陶瓷盤吸附緊貼于所述吸附平臺的頂面。

在一個示例中，所述定位柱凸出于所述吸附平臺的頂面的高度等于所述陶瓷盤的厚度。

在一個示例中，所述吸附平臺頂面的所述吸附槽圍繞區域的中心開設有安裝孔，所述定位柱通過所述安裝孔可拆卸安裝于所述吸附平臺。

在一個示例中，所述陶瓷盤平磨用真空吸盤還包括密封圈，所述吸附平臺的頂面圍繞所述吸附槽的外環和內環還同軸開設有環形的密封圈安裝槽，所述密封圈安裝于所述密封圈安裝槽內，所述密封圈用于密封所述陶瓷盤與所述吸附槽兩側的所述吸附平臺頂面之間的間隙。

在一個示例中，所述密封圈安裝槽的截面形狀與所述密封圈的截面形狀相適配，且所述密封圈安裝槽的深度大于所述密封圈的截面半徑、小于所述密封圈的截面直徑。

在一個示例中，所述吸附平臺的與頂面相鄰的側面開設有多個與所述抽吸通道連通的抽氣孔。

在一個示例中，所述吸附平臺的頂面沿其長度方向等間隔設置有多個所述吸附槽。

通過本實用新型提出的一種陶瓷盤平磨用真空吸盤能帶來如下有益效果：

1、通過設置定位柱，陶瓷盤能夠固定套設于定位柱上，防止陶瓷盤晃動影響打磨效果，抽吸通道通過抽吸孔抽吸吸附槽內的空氣，陶瓷盤固定吸附于吸附平臺上，在陶瓷盤打磨時，防止陶瓷盤晃動使抽吸槽與陶瓷盤產生間隙影響真空吸盤的吸附效果，陶瓷盤定位準確牢固，保證陶瓷盤的打磨質量，實用性強，適合推廣應用。