[實(shí)用新型]一種陶瓷盤(pán)平磨用真空吸盤(pán)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202023329747.1
• 申請(qǐng)日: 2020-12-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN214560017U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-11-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝海龍
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 蘇州明立陽(yáng)電子科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B24B41/06
• 分類(lèi)號(hào): B24B41/06
• 代理公司: 蘇州瞪羚知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32438
• 代理人: 周治宇

1.一種陶瓷盤(pán)平磨用真空吸盤(pán)，陶瓷盤(pán)中心設(shè)置有軸孔，其特征在于，所述陶瓷盤(pán)平磨用真空吸盤(pán)包括吸附平臺(tái)和定位柱，所述吸附平臺(tái)的頂面開(kāi)設(shè)有環(huán)形的吸附槽，所述吸附槽的外徑小于所述陶瓷盤(pán)的外徑，所述吸附槽的內(nèi)徑大于所述陶瓷盤(pán)的所述軸孔的孔徑，所述吸附槽內(nèi)設(shè)置有抽吸孔，所述吸附平臺(tái)還設(shè)置有與所述抽吸孔連通的抽吸通道和進(jìn)氣通道；所述定位柱凸出設(shè)置于所述吸附平臺(tái)的頂面并位于所述吸附槽圍繞區(qū)域的中心，所述定位柱與所述陶瓷盤(pán)的所述軸孔相適配；所述陶瓷盤(pán)能夠通過(guò)所述軸孔套設(shè)于所述定位柱，以將所述陶瓷盤(pán)定位安裝于所述吸附平臺(tái)，并使所述陶瓷盤(pán)的盤(pán)面封閉所述吸附槽，通過(guò)所述抽吸通道抽吸所述吸附槽內(nèi)的空氣，能夠?qū)⑺鎏沾杀P(pán)吸附緊貼于所述吸附平臺(tái)的頂面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷盤(pán)平磨用真空吸盤(pán)，其特征在于，所述定位柱凸出于所述吸附平臺(tái)的頂面的高度等于所述陶瓷盤(pán)的厚度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷盤(pán)平磨用真空吸盤(pán)，其特征在于，所述吸附平臺(tái)頂面的所述吸附槽圍繞區(qū)域的中心開(kāi)設(shè)有安裝孔，所述定位柱通過(guò)所述安裝孔可拆卸安裝于所述吸附平臺(tái)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷盤(pán)平磨用真空吸盤(pán)，其特征在于，所述陶瓷盤(pán)平磨用真空吸盤(pán)還包括密封圈，所述吸附平臺(tái)的頂面圍繞所述吸附槽的外環(huán)和內(nèi)環(huán)還同軸開(kāi)設(shè)有環(huán)形的密封圈安裝槽，所述密封圈安裝于所述密封圈安裝槽內(nèi)，所述密封圈用于密封所述陶瓷盤(pán)與所述吸附槽兩側(cè)的所述吸附平臺(tái)頂面之間的間隙。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種陶瓷盤(pán)平磨用真空吸盤(pán)，其特征在于，所述密封圈安裝槽的截面形狀與所述密封圈的截面形狀相適配，且所述密封圈安裝槽的深度大于所述密封圈的截面半徑，小于所述密封圈的截面直徑。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種陶瓷盤(pán)平磨用真空吸盤(pán)，其特征在于，所述吸附平臺(tái)的與頂面相鄰的側(cè)面開(kāi)設(shè)有多個(gè)與所述抽吸通道連通的抽氣孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的一種陶瓷盤(pán)平磨用真空吸盤(pán)，其特征在于，所述吸附平臺(tái)的頂面沿其長(zhǎng)度方向等間隔設(shè)置有多個(gè)所述吸附槽。