[實用新型]量子點膜層結(jié)構(gòu)及成型裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202023320900.4
• 申請日: 2020-12-31
• 公開（公告）號: CN214705965U
• 公開（公告）日: 2021-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 方毅;李流民
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州清越光電科技股份有限公司
• 主分類號: H01L33/50
• 分類號: H01L33/50;H01L33/44;H01L33/04;H01L33/06;G02F1/13357;C23C14/12;C23C14/04;C23C14/22
• 代理公司: 北京遠智匯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11659
• 代理人: 林波

1.一種量子點膜層結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

量子點層(100)，包括量子點層上表面(101)、量子點層下表面以及設(shè)置在所述量子點層上表面(101)和所述量子點層下表面之間并沿所述量子點層(100)的周向延伸的量子點層側(cè)表面(102)；和

第一阻隔膜(200)，包覆所述量子點層上表面(101)的周向邊緣、所述量子點層下表面的周向邊緣以及所述量子點層側(cè)表面(102)，所述第一阻隔膜(200)用于阻擋水和/或氧氣進入所述量子點層(100)的邊緣。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的量子點膜層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一阻隔膜(200)包括依次相連接的上封邊(201)、下封邊(202)和邊緣封邊(203)，所述上封邊(201)與所述量子點層上表面(101)相貼附，所述下封邊(202)與所述量子點層下表面相貼附，所述邊緣封邊(203)與所述量子點層側(cè)表面(102)相貼附。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的量子點膜層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一阻隔膜(200)由氣態(tài)派瑞林沉積形成。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的量子點膜層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第一阻隔膜(200)的厚度介于0.5μm-20μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的量子點膜層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述量子點膜層結(jié)構(gòu)還包括第二阻隔膜(300)，所述第二阻隔膜(300)將所述量子點層(100)與所述第一阻隔膜(200)完全包覆，所述第二阻隔膜(300)用于阻隔水和/或氧氣進入所述量子點層(100)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的量子點膜層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述第二阻隔膜(300)的厚度介于5μm-100μm。

7.一種成型裝置，用于加工如權(quán)利要求1-6任一項所述量子點膜層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述成型裝置包括：

氣相沉積室(1)；

支撐臺(2)，用于運輸所述量子點層(100)；

兩組遮擋組件(3)，分別設(shè)置在所述量子點層(100)的上側(cè)和下側(cè)，所述遮擋組件(3)被配置為遮擋所述量子點層(100)的中心區(qū)域并露出其周向邊緣；以及

噴料機構(gòu)，向所述氣相沉積室(1)內(nèi)輸入待沉積材料。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成型裝置，其特征在于，所述遮擋組件(3)包括沿Y軸方向?qū)χ玫膬山M遮擋單體(31)，兩個所述遮擋單體(31)沿Y軸方向靠近時能夠拼接成一個整體并沿Z軸方向正對所述量子點層(100)的中心區(qū)域。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的成型裝置，其特征在于，所述遮擋單體(31)包括：

升降臺(311)，設(shè)置在所述氣相沉積室(1)的內(nèi)壁，所述升降臺(311)包括兩個沿Z軸方向間距可調(diào)的升降滑塊；

滑桿(312)，每個所述升降滑塊上設(shè)有一根所述滑桿(312)，所述滑桿(312)沿Y軸方向延伸；

滑動氣缸(313)，設(shè)置在所述滑桿(312)上，所述滑動氣缸(313)的輸出端沿Y軸方向運動；和

擋板(314)，套設(shè)在所述滑桿(312)上并與所述滑動氣缸(313)的輸出端連接，兩組所述升降臺(311)的相對的所述擋板(314)能夠沿Y軸方向密封拼接。