[實用新型]穩定型光柵尺

有效

• 申請號: 202023314934.2
• 申請日: 2020-12-31
• 公開（公告）號: CN214223987U
• 公開（公告）日: 2021-09-17
• 發明（設計）人: 巫孟良;胡勇;吳國良;蔣南
• 申請（專利權）人: 廣東萬濠精密儀器股份有限公司
• 主分類號: G01B11/00
• 分類號: G01B11/00
• 代理公司: 廈門市新華專利商標代理有限公司 35203
• 代理人: 吳成開;徐勛夫

本實用新型公開一種穩定型光柵尺，包括有基板和設置于基板之表面上的多個刻度光柵；每一刻度光柵均包括有下氧化鉻層、鉻層和上氧化鉻層；該下氧化鉻層結合固定在基板的表面上，該鉻層結合固定在下氧化鉻層的表面上，該上氧化鉻層結合固定在鉻層的表面上。通過由下氧化鉻層、鉻層和上氧化鉻層組成刻度光柵，利用下氧化鉻層和上氧化鉻層包覆住鉻層，氧化鉻更硬，可減少劃痕，化學穩定性更好，產品更耐用，并且下氧化鉻層和上氧化鉻層可減少光的反射量，使得平行光質量更好。

技術領域

本實用新型涉及光柵尺領域技術，尤其是指一種穩定型光柵尺。

背景技術

在精密測量與自動控制領域，常采用光柵作為基準，被公認為是獲取高精度最實用、最經濟、最可靠的技術。此外光柵尺以其檢測范圍大、檢測精度高和響應速度快等特點，被廣泛應用于數控機床中，數控系統根據光柵尺反饋的位置信息來進行機械加工，因此光柵尺的精度直接決定了數控機床的加工精度。

目前的光柵尺的主要結構包括有基板和設置于基板之表面上的多個刻度光柵，該刻度光柵通常為鉻材質，鉻材質較軟，容易出現劃痕，化學穩定性差，不耐用，并且對光的反射量大，使平行光質量較差。因此，有必要研究一種方案以解決上述問題。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型針對現有技術存在之缺失，其主要目的是提供一種穩定型光柵尺，其能有效解決現有之光柵尺化學穩定性差并且會使平行光質量變差的問題。

為實現上述目的，本實用新型采用如下之技術方案：

一種穩定型光柵尺，包括有基板和設置于基板之表面上的多個刻度光柵；每一刻度光柵均包括有下氧化鉻層、鉻層和上氧化鉻層；該下氧化鉻層結合固定在基板的表面上，該鉻層結合固定在下氧化鉻層的表面上，該上氧化鉻層結合固定在鉻層的表面上。

作為一種優選方案，所述下氧化鉻層通過真空濺鍍的方式結合固定在基板的表面上。

作為一種優選方案，所述鉻層通過真空濺鍍的方式結合固定在下氧化鉻層的表面上。

作為一種優選方案，所述上氧化鉻層通過真空濺鍍的方式結合固定在鉻層的表面上。

作為一種優選方案，所述鉻層的厚度大于下氧化鉻層的厚度，且下氧化鉻層和上氧化鉻層的厚度相同。

作為一種優選方案，所述基板為二氧化硅材質。

本實用新型與現有技術相比具有明顯的優點和有益效果，具體而言，由上述技術方案可知：

一、通過由下氧化鉻層、鉻層和上氧化鉻層組成刻度光柵，利用下氧化鉻層和上氧化鉻層包覆住鉻層，氧化鉻更硬，可減少劃痕，化學穩定性更好，產品更耐用，并且下氧化鉻層和上氧化鉻層可減少光的反射量，使得平行光質量更好。

二、通過采用二氧化硅材質的基板，利用下氧化鉻層可與二氧化硅材質的基板結合牢固，并配合鉻層可與上氧化鉻層、下氧化鉻層結合牢固，從而使本產品的耐磨性能得到很大的提升，有利于延長產品的使用壽命。

為更清楚地闡述本實用新型的結構特征和功效，下面結合附圖與具體實施例來對本實用新型進行詳細說明。

附圖說明

圖1是本實用新型之較佳實施例的局部截面圖。

附圖標識說明：

10、基板 20、刻度光柵

21、下氧化鉻層 22、鉻層

23、上氧化鉻層。

具體實施方式

請參照圖1所示，其顯示出了本實用新型之較佳實施例的具體結構，包括有基板10和設置于基板10之表面上的多個刻度光柵20。