[實用新型]一種樣品臺及掃描電子顯微鏡

有效

• 申請號: 202023229180.0
• 申請日: 2020-12-28
• 公開（公告）號: CN213958903U
• 公開（公告）日: 2021-08-13
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 宣城睿暉宣晟企業管理中心合伙企業（有限合伙）
• 主分類號: H01J37/20
• 分類號: H01J37/20;H01J37/28
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250
• 代理人: 于妙卓

本實用新型涉及電子掃描顯微裝置技術領域，提供了一種樣品臺及掃描電子顯微鏡，該樣品臺包括：基臺體，具有面向檢測部件設置的第一端面；所述第一端面上至少包括水平臺面、第一垂直斷面臺面和第一斜臺面；所述水平臺面沿水平方向設置，所述第一垂直斷面臺面沿豎直方向設置，所述第一斜臺面呈傾斜設置。本實用新型提供的樣品臺，基臺體具有面向檢測部件設置的第一端面，在第一端面上至少包括水平臺面、第一垂直斷面臺面和第一斜臺面，可以同時用于觀察樣品的斜面、平面及斷面樣品形貌，無需選擇多個類型不同的樣品臺并先后進樣，減少了掃描電子顯微鏡的觀測時間，提高了觀測效率。

技術領域

本實用新型涉及電子掃描顯微裝置技術領域，具體涉及一種樣品臺及掃描電子顯微鏡。

背景技術

SEM(Scanning Electron Microscope，掃描電子顯微鏡)是一種利用電子束掃描樣品表面從而獲得樣品信息的電子顯微鏡，是一種新型的電子儀器，具有制樣簡單、放大倍數可調范圍寬、圖像的分辨率高、景深大等特點。SEM的焦深比TEM(Transmission ElectronMicroscope，透射電子顯微鏡)大10倍，比光學顯微鏡大幾百倍。由于圖像景深大，故所得掃描電子圖像富有立體感，具有三維形態，能夠提供比其他顯微鏡更多的信息。SEM所顯示的斷口形貌從深層次，高景深的角度呈現材料斷裂的本質，在教學、科研和生產中，具有不可替代的作用，在材料斷裂原因的分析、事故原因的分析以及工藝合理性的判定等方面是一個強有力的手段。

樣品臺是SEM的關鍵部件之一，它用以承載樣品，并通過電子束掃描系統成像表征樣品的局部特征。然而，目前SEM常用的樣品臺對裝載樣品的斷面斜面觀察有一定的限制，只適用于平面或斷面的觀察，不能在一個樣品臺上觀察到樣品的斜面、平面及斷面樣品形貌；當需要對樣品的平面、斷面及斜面進行觀測時，需要選擇多個類型不同的樣品臺并先后進樣，增加了掃描電子顯微鏡的觀測時間，影響觀測效率。

實用新型內容

因此，本實用新型要解決的技術問題在于克服現有技術中的樣品臺只適用于平面或斷面的觀察，不能在一個樣品臺上觀察樣品的斜面、平面及斷面樣品形貌的缺陷，從而提供一種樣品臺及掃描電子顯微鏡。

為解決上述技術問題，本實用新型的技術方案如下：

一種樣品臺，包括：基臺體，具有面向檢測部件設置的第一端面；所述第一端面上至少包括水平臺面、第一垂直斷面臺面和第一斜臺面；所述水平臺面沿水平方向設置，所述第一垂直斷面臺面沿豎直方向設置，所述第一斜臺面呈傾斜設置。

進一步地，所述第一端面上還包括傾斜角度與所述第一斜臺面的傾斜角度不同的第二斜臺面。

進一步地，所述基臺體上設有凹槽，所述凹槽的槽底為所述水平臺面，所述凹槽的其中一個側壁為所述第一垂直斷面臺面。

進一步地，所述凹槽為矩形槽，所述第一端面上還包括作為所述矩形槽的另一側壁的第二垂直斷面臺面。

進一步地，所述矩形槽的其中一個槽口邊緣向靠近所述基臺體的一側邊緣的方向傾斜延伸形成所述第一斜臺面；所述矩形槽的另一個槽口邊緣向靠近所述基臺體的另一側邊緣的方向傾斜延伸形成所述第二斜臺面。

進一步地，所述第一斜臺面靠近所述矩形槽的槽口一端的高度大于靠近所述基臺體一側邊緣的高度；所述第二斜臺面靠近所述矩形槽的槽口一端的高度大于靠近所述基臺體一側邊緣的高度。

進一步地，所述第一斜臺面的傾角范圍為55°－65°，所述第二斜臺面(7)的傾角范圍為25°－35°。

進一步地，所述基臺體呈圓柱狀結構，所述基臺體的頂面為所述第一端面，所述凹槽由所述基臺體的頂面向下凹陷形成。

進一步地，所述基臺體的外周壁上設有若干用于連接外部部件的安裝孔。

一種掃描電子顯微鏡，包括上述所述的樣品臺。